Дом > Продукты > Карбид кремния с покрытием
Продукты

Китай Карбид кремния с покрытием Производители, Поставщики, Фабрика

Покрытие SiC представляет собой тонкий слой на токоприемнике, полученный методом химического осаждения из паровой фазы (CVD). Карбид кремния имеет ряд преимуществ перед кремнием, в том числе 10-кратную напряженность электрического поля пробоя, 3-кратную ширину запрещенной зоны, что обеспечивает материалу высокую температурную и химическую стойкость, отличную износостойкость, а также теплопроводность.

Semicorex предоставляет индивидуальное обслуживание, помогает вам внедрять инновации с использованием компонентов, которые служат дольше, сокращают время цикла и повышают производительность.


Покрытие SiC обладает рядом уникальных преимуществ.

Устойчивость к высоким температурам: токоприемник с CVD-покрытием SiC может выдерживать высокие температуры до 1600°C без значительной термической деградации.

Химическая стойкость: покрытие из карбида кремния обеспечивает превосходную стойкость к широкому спектру химикатов, включая кислоты, щелочи и органические растворители.

Износостойкость: покрытие SiC придает материалу превосходную износостойкость, что делает его пригодным для применений, связанных с высоким износом.

Теплопроводность: покрытие CVD SiC придает материалу высокую теплопроводность, что делает его пригодным для использования в высокотемпературных приложениях, требующих эффективной теплопередачи.

Высокая прочность и жесткость: токоприемник с покрытием из карбида кремния придает материалу высокую прочность и жесткость, что делает его пригодным для применений, требующих высокой механической прочности.


Покрытие SiC используется в различных областях применения.

Производство светодиодов: Токоприемник с покрытием CVD SiC используется при производстве различных типов светодиодов, включая синие и зеленые светодиоды, УФ-светодиоды и светодиоды с глубоким УФ-излучением, благодаря его высокой теплопроводности и химической стойкости.



Мобильная связь: токоприемник с CVD-покрытием SiC является важной частью HEMT для завершения эпитаксиального процесса GaN-on-SiC.



Обработка полупроводников: Токоприемник с CVD-покрытием SiC используется в полупроводниковой промышленности для различных применений, включая обработку пластин и эпитаксиальное выращивание.





Графитовые компоненты с покрытием SiC

Изготовленное из графита с покрытием из карбида кремния (SiC), покрытие наносится методом CVD на определенные марки графита высокой плотности, поэтому оно может работать в высокотемпературной печи при температуре более 3000 ° C в инертной атмосфере и 2200 ° C в вакууме. .

Особые свойства и малая масса материала обеспечивают высокую скорость нагрева, равномерное распределение температуры и исключительную точность управления.


Данные о материале покрытия Semicorex SiC

Типичные свойства

Единицы

Ценности

Структура


FCC β-фаза

Ориентация

Фракция (%)

111 предпочтительный

Объемная плотность

г/см³

3.21

Твердость

Твердость по Виккерсу

2500

Теплоемкость

Дж кг-1 К-1

640

Тепловое расширение 100–600 °C (212–1112 °F)

10-6К-1

4.5

Модуль Юнга

Gpa (изгиб 4 пт, 1300 ℃)

430

Размер зерна

мкм

2~10

Температура сублимации

2700

Фелексуральная сила

МПа (RT 4-точечный)

415

Теплопроводность

(Вт/мК)

300


Выводы. Токоприемник с CVD-покрытием SiC представляет собой композиционный материал, сочетающий в себе свойства токоприемника и карбида кремния. Этот материал обладает уникальными свойствами, среди которых высокая температурная и химическая стойкость, отличная износостойкость, высокая теплопроводность, высокая прочность и жесткость. Эти свойства делают его привлекательным материалом для различных высокотемпературных применений, включая обработку полупроводников, химическую обработку, термообработку, производство солнечных батарей и производство светодиодов.






View as  
 
Кремниевый пьедестал

Кремниевый пьедестал

Кремниевый пьедестал Semicorex, часто упускаемый из виду, но чрезвычайно важный компонент, играет жизненно важную роль в достижении точных и повторяемых результатов в процессах диффузии и окисления полупроводников. Специализированная платформа, на которой размещаются кремниевые лодочки в высокотемпературных печах, предлагает уникальные преимущества, которые напрямую способствуют повышению однородности температуры, улучшению качества пластин и, в конечном итоге, превосходным характеристикам полупроводниковых устройств.**

Читать далееОтправить запрос
Лодка для отжига кремния

Лодка для отжига кремния

Лодка для отжига кремния Semicorex, тщательно разработанная для обработки кремниевых пластин, играет решающую роль в создании высокопроизводительных полупроводниковых устройств. Его уникальные конструктивные особенности и свойства материала делают его незаменимым для таких важных этапов производства, как диффузия и окисление, обеспечивая равномерную обработку, максимизируя выход продукции и способствуя общему качеству и надежности полупроводниковых устройств.**

Читать далееОтправить запрос
Рецептор эпитаксии MOCVD

Рецептор эпитаксии MOCVD

Susceptor Semicorex MOCVD Epitaxy Susceptor стал важнейшим компонентом эпитаксии методом химического осаждения металлов и органических соединений (MOCVD), позволяющим изготавливать высокопроизводительные полупроводниковые устройства с исключительной эффективностью и точностью. Уникальное сочетание свойств материала делает его идеально подходящим для сложных термических и химических условий, возникающих при эпитаксиальном выращивании сложных полупроводников.**

Читать далееОтправить запрос
Горизонтальная вафельная лодка из карбида кремния

Горизонтальная вафельная лодка из карбида кремния

Горизонтальная SiC-вафельная лодка Semicorex стала незаменимым инструментом в производстве высокопроизводительных полупроводниковых и фотоэлектрических устройств. Эти специализированные носители, тщательно разработанные из карбида кремния высокой чистоты (SiC), обладают исключительными термическими, химическими и механическими свойствами, необходимыми для сложных процессов, связанных с изготовлением передовых электронных компонентов.**

Читать далееОтправить запрос
Многокарманный приемник SiC

Многокарманный приемник SiC

Semicorex SiC Multi Pocket Susceptor представляет собой важнейшую технологию эпитаксиального выращивания высококачественных полупроводниковых пластин. Эти токоприемники, изготовленные с помощью сложного процесса химического осаждения из паровой фазы (CVD), представляют собой надежную и высокопроизводительную платформу для достижения исключительной однородности эпитаксиального слоя и эффективности процесса.**

Читать далееОтправить запрос
Керамическая вафельная лодка из карбида кремния (SiC)

Керамическая вафельная лодка из карбида кремния (SiC)

Semicorex SiC Ceramic Wafer Boat стал важной технологией, обеспечивающей непоколебимую платформу для высокотемпературной обработки, одновременно сохраняя целостность пластин и обеспечивая чистоту, необходимую для высокопроизводительных устройств. Он специально разработан для полупроводниковой и фотоэлектрической промышленности, в которой важна точность. Каждый аспект обработки пластин, от осаждения до диффузии, требует тщательного контроля и безупречной среды. Мы в Semicorex занимаемся производством и поставкой высокопроизводительных керамических вафельных лодочек из карбида кремния, сочетающих качество с экономической эффективностью.**

Читать далееОтправить запрос
Semicorex производит Карбид кремния с покрытием в течение многих лет и является одним из профессиональных производителей и поставщиков Карбид кремния с покрытием в Китае. После того, как вы купите наши передовые и долговечные продукты, поставляющие оптовую упаковку, мы гарантируем быструю доставку большого количества. На протяжении многих лет мы предоставляем клиентам индивидуальное обслуживание. Клиенты довольны нашей продукцией и отличным сервисом. Мы искренне надеемся стать вашим надежным долгосрочным деловым партнером! Добро пожаловать на покупку продукции с нашего завода.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept