Графит покрытия TaC создается путем покрытия поверхности графитовой подложки высокой чистоты тонким слоем карбида тантала с помощью запатентованного процесса химического осаждения из паровой фазы (CVD).
Карбид тантала (TaC) – это соединение, состоящее из тантала и углерода. Он обладает металлической электропроводностью и исключительно высокой температурой плавления, что делает его огнеупорным керамическим материалом, известным своей прочностью, твердостью, теплостойкостью и износостойкостью. Пиковая температура плавления карбидов тантала составляет около 3880°C в зависимости от чистоты и имеет одну из самых высоких температур плавления среди бинарных соединений. Это делает его привлекательной альтернативой, когда требования к более высоким температурам превышают возможности производительности, используемые в эпитаксиальных процессах соединения полупроводников, таких как MOCVD и LPE.
Данные о материале покрытия Semicorex TaC
|
Проекты |
Параметры |
|
Плотность |
14,3 (г/см³) |
|
Коэффициент излучения |
0.3 |
|
КТР (×10-6/К) |
6.3 |
|
Твердость (НК) |
2000 |
|
Сопротивление (Ом-см) |
1×10-5 |
|
Термическая стабильность |
<2500℃ |
|
Изменение размеров графита |
-10~-20ум (справочное значение) |
|
Толщина покрытия |
Типичное значение ≥20 мкм (35 мкм±10 мкм) |
|
|
|
|
Вышеуказанные значения являются типичными. |
|
Компоненты с покрытием Semicorex TaC при эпитаксиальном выращивании — это ценная обрабатываемая деталь, расположенная в воздухозаборнике в процессе эпитаксиального выращивания полупроводников. Semicorex — первоклассная компания, которая специализируется на технологии нанесения покрытий CVD TaC в Китае и экспортирует продукцию по всему миру.*
Читать далееОтправить запросДержатель затравочных кристаллов с покрытием TaC — это высокопроизводительный компонент, специально разработанный для условий выращивания полупроводниковых материалов. Являясь ведущим производителем держателей затравочных кристаллов с покрытием TTaC, компания Semicorex предлагает вам эффективные решения для основных компонентов в области производства высокотехнологичных полупроводников.
Читать далееОтправить запросSemicorex TaC Coating Pedestal Supporter — это важнейший компонент, разработанный для систем эпитаксиального выращивания, специально предназначенный для поддержки постаментов реактора и оптимизации распределения потока технологического газа. Semicorex предлагает высокопроизводительное, прецизионное решение, которое сочетает в себе превосходную структурную целостность, термическую стабильность и химическую стойкость, обеспечивая стабильную и надежную работу в сложных приложениях эпитаксии.*
Читать далееОтправить запросSemicorex CVD TaC Coated Susceptor — это решение премиум-класса, разработанное для эпитаксиальных процессов MOCVD, обеспечивающее исключительную термическую стабильность, чистоту и коррозионную стойкость в экстремальных технологических условиях. Компания Semicorex специализируется на прецизионных технологиях нанесения покрытий, которые обеспечивают стабильное качество пластин, увеличенный срок службы компонентов и надежную работу в каждом производственном цикле.*
Читать далееОтправить запросТигли Semicorex с покрытием TaC — это высокопроизводительные контейнеры, предназначенные для работы в экстремальных температурах, подходящие как для плавки металлов, так и для современных полупроводниковых процессов. Выбор Semicorex означает получение доступа к передовым технологиям нанесения покрытий и инженерному опыту, которые обеспечивают исключительную чистоту, долговечность и стабильность в самых сложных условиях.*
Читать далееОтправить запросПланетарная пластина Semicorex TaC с покрытием — это высокоточный компонент, предназначенный для эпитаксиального выращивания методом MOCVD, отличающийся планетарным движением с множеством карманов для пластин и оптимизированным управлением потоком газа. Выбор Semicorex означает доступ к передовым технологиям нанесения покрытий и инженерному опыту, которые обеспечивают исключительную долговечность, чистоту и стабильность процессов в полупроводниковой промышленности.*
Читать далееОтправить запрос