Графит покрытия TaC создается путем покрытия поверхности графитовой подложки высокой чистоты тонким слоем карбида тантала с помощью запатентованного процесса химического осаждения из паровой фазы (CVD).
Карбид тантала (TaC) – это соединение, состоящее из тантала и углерода. Он обладает металлической электропроводностью и исключительно высокой температурой плавления, что делает его огнеупорным керамическим материалом, известным своей прочностью, твердостью, теплостойкостью и износостойкостью. Пиковая температура плавления карбидов тантала составляет около 3880°C в зависимости от чистоты и имеет одну из самых высоких температур плавления среди бинарных соединений. Это делает его привлекательной альтернативой, когда требования к более высоким температурам превышают возможности производительности, используемые в эпитаксиальных процессах соединения полупроводников, таких как MOCVD и LPE.
Данные о материале покрытия Semicorex TaC
Проекты |
Параметры |
Плотность |
14,3 (г/см³) |
Коэффициент излучения |
0.3 |
КТР (×10-6/К) |
6.3 |
Твердость (НК) |
2000 |
Сопротивление (Ом-см) |
1×10-5 |
Термическая стабильность |
<2500℃ |
Изменение размеров графита |
-10~-20ум (справочное значение) |
Толщина покрытия |
Типичное значение ≥20 мкм (35 мкм±10 мкм) |
|
|
Вышеуказанные значения являются типичными. |
|
Направляющее кольцо Semicorex из карбида тантала представляет собой графитовое кольцо, покрытое карбидом тантала, используемое в печах для выращивания кристаллов карбида кремния для поддержки затравочных кристаллов, оптимизации температуры и повышения стабильности роста. Выбирайте Semicorex из-за его передовых материалов и дизайна, которые значительно повышают эффективность и качество выращивания кристаллов.*
Читать далееОтправить запросКольцо Semicorex из карбида тантала представляет собой графитовое кольцо, покрытое карбидом тантала, которое используется в качестве направляющего кольца в печах для выращивания кристаллов карбида кремния для обеспечения точного контроля температуры и потока газа. Выбирайте Semicorex из-за его передовой технологии нанесения покрытий и высококачественных материалов, обеспечивающих долговечные и надежные компоненты, которые повышают эффективность роста кристаллов и продлевают срок службы продукта.*
Читать далееОтправить запросВафельный лоток с покрытием Semicorex TaC должен быть спроектирован таким образом, чтобы противостоять вызовам экстремальные условия внутри реакционной камеры, включая высокие температуры и химически активные среды.**
Читать далееОтправить запросПластина с покрытием Semicorex TaC выделяется как высокопроизводительный компонент для сложных процессов эпитаксиального выращивания и других условий производства полупроводников. Благодаря ряду превосходных свойств она может в конечном итоге повысить производительность и экономическую эффективность современных процессов производства полупроводников.**
Читать далееОтправить запросSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon — незаменимый актив в мире эпитаксии, обеспечивающий надежное решение проблем, связанных с высокими температурами, активными газами и строгими требованиями к чистоте.**
Читать далееОтправить запросПокрытие Semicorex CVD TaC становится важной технологией, позволяющей работать в сложных условиях эпитактических реакторов, характеризующихся высокими температурами, химически активными газами и строгими требованиями к чистоте, что требует использования прочных материалов для обеспечения последовательного роста кристаллов и предотвращения нежелательных реакций.**
Читать далееОтправить запрос