Графитовая центральная пластина Semicorex или токоприемник MOCVD представляет собой карбид кремния высокой чистоты, покрытый методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), который используется в процессе выращивания эпитаксиального слоя на пластине-чипе. Токоприемник с покрытием SiC является важной частью MOCVD, поэтому он требует превосходной термо- и химической стойкости, а также высокой термической однородности. Мы разработали специально для этого требовательного оборудования для эпитаксии.
Графитовые токоприемники MOCVD с покрытием из SiC являются важными компонентами, используемыми в оборудовании для химического осаждения металлоорганических соединений (MOCVD), которые отвечают за удержание и нагрев подложек пластин. Благодаря превосходному терморегулированию, химической стойкости и стабильности размеров графитовые MOCVD-приемники с покрытием SiC считаются оптимальным вариантом для высококачественной эпитаксии подложек пластин. При изготовлении пластин технология MOCVD используется для создания эпитаксиальных слоев на поверхности подложек пластин, подготавливая их к изготовлению современных полупроводниковых устройств. Поскольку на рост эпитаксиальных слоев влияет множество факторов, подложки пластин не могут быть непосредственно помещены в оборудование MOCVD для осаждения......
Читать далееОтправить запросПолучики 6-дюймовые держатели пластин являются высокопроизводительным носителем, спроектированным для строгих требований эпитаксиального роста SIC. Выберите SemiCorex для непревзойденной чистоты материала, точной инженерии и доказанной надежности в высокотемпературных, высокодоходных процессах SIC**************
Читать далееОтправить запросДержатель пластин Semicorex MOCVD является незаменимым компонентом для эпитаксии SiC, обеспечивая превосходное управление температурным режимом, химическую стойкость и стабильность размеров. Выбирая держатель пластин Semicorex, вы повышаете производительность процессов MOCVD, что приводит к повышению качества продукции и повышению эффективности операций по производству полупроводников. *
Читать далееОтправить запросДатчик Semicorex MOCVD 3x2’’, разработанный Semicorex, представляет собой вершину инноваций и инженерного совершенства, специально разработанный для удовлетворения сложных требований современных процессов производства полупроводников.**
Читать далееОтправить запросКольцо с покрытием Semicorex SiC является важнейшим компонентом в сложных условиях процессов эпитаксии полупроводников. Благодаря нашему твердому стремлению предоставлять продукцию высочайшего качества по конкурентоспособным ценам, мы готовы стать вашим долгосрочным партнером в Китае.*
Читать далееОтправить запросПриверженность Semicorex качеству и инновациям очевидна в сегменте SiC MOCVD. Обеспечивая надежную, эффективную и высококачественную эпитаксию SiC, она играет жизненно важную роль в расширении возможностей полупроводниковых устройств следующего поколения.**
Читать далееОтправить запрос