Бочковые токоприемники являются важнейшим компонентом, используемым в различных процессах производства полупроводников, таких как LPE, MOCVD. Semicorex наносит карбид кремния высокой чистоты тонкими слоями на графит с помощью процесса химического осаждения из паровой фазы (CVD), что придает полупроводниковым материалам превосходную термическую стабильность, химическую стойкость и износостойкость, что делает их идеальными для использования в высокопроизводительных средах. температурные процессы.
● Графит высокой чистоты с покрытием SiC.
● Превосходная термостойкость и химическая стойкость.
● Высокая термическая однородность.
● Отличная износостойкость.
Стволовый токоприемник Semicorex CVD SiC с покрытием представляет собой тщательно разработанный компонент, предназначенный для передовых процессов производства полупроводников, в частности для эпитаксии. Наша продукция имеет хорошее ценовое преимущество и охватывает большую часть рынков Европы и Америки. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросГрафит с покрытием из карбида кремния Semicorex Barrel Susceptor представляет собой специализированный компонент, предназначенный для использования в процессе эпитаксии, особенно при переноске пластин. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать больше о том, как мы можем помочь вам в обработке полупроводниковых пластин.
Читать далееОтправить запросСтволовый токоприемник Semicorex с SiC-покрытием для эпитаксиального роста LPE — это высокопроизводительный продукт, разработанный для обеспечения стабильной и надежной работы в течение длительного периода. Его равномерный термический профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения делают его идеальным выбором для выращивания высококачественных эпитаксиальных слоев на пластинах-чипах. Его индивидуализация и экономичность делают его высококонкурентным продуктом на рынке.
Читать далееОтправить запросSemicorex Barrel Susceptor Epi System — это высококачественный продукт, который обеспечивает превосходную адгезию покрытия, высокую чистоту и стойкость к высокотемпературному окислению. Его равномерный термический профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения делают его идеальным выбором для выращивания эпиксиальных слоев на пластинчатых чипах. Его экономичность и возможность настройки делают его высококонкурентным продуктом на рынке.
Читать далееОтправить запросРеакторная система для жидкофазной эпитаксии (LPE) Semicorex — это инновационный продукт, который обеспечивает превосходные тепловые характеристики, равномерный термический профиль и превосходную адгезию покрытия. Его высокая чистота, стойкость к высокотемпературному окислению и коррозионная стойкость делают его идеальным выбором для использования в полупроводниковой промышленности. Возможности настройки и экономичность делают его высококонкурентным продуктом на рынке.
Читать далееОтправить запросРеактор для эпитаксиального осаждения Semicorex CVD в цилиндрическом корпусе — это высокопрочный и надежный продукт для выращивания эпиксиальных слоев на пластинчатых чипах. Его стойкость к высокотемпературному окислению и высокая чистота делают его пригодным для использования в полупроводниковой промышленности. Его равномерный термический профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения делают его идеальным выбором для высококачественного выращивания эпиксиального слоя.
Читать далееОтправить запрос