Технология химического осаждения из паровой фазы (CVD) SiC необходима для производства высокопроизводительной силовой электроники, обеспечивая точный эпитаксиальный рост слоев карбида кремния высокой чистоты на пластинах-подложках. Используя широкую запрещенную зону и превосходную теплопроводность S......
Читать далееВ процессе химического осаждения из паровой фазы (CVD) используемые газы в основном включают газы-реагенты и газы-носители. Газы-реагенты обеспечивают атомы или молекулы осаждаемого материала, а газы-носители используются для разбавления и контроля реакционной среды. Ниже приведены некоторые часто и......
Читать далееРазличные сценарии применения предъявляют разные требования к характеристикам графитовых изделий, поэтому точный выбор материала является ключевым шагом в применении графитовых изделий. Выбор графитовых компонентов с характеристиками, соответствующими сценариям применения, может не только эффективно......
Читать далееПрежде чем обсуждать технологию химического осаждения из паровой фазы (CVD) карбида кремния (Sic), давайте сначала рассмотрим некоторые базовые знания о «химическом осаждении из паровой фазы». Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод изготовления различных покрытий. ......
Читать далееТепловое поле роста монокристалла представляет собой пространственное распределение температуры внутри высокотемпературной печи во время процесса роста монокристалла, которое напрямую влияет на качество, скорость роста и скорость образования кристаллов монокристалла. Тепловое поле можно разделить на......
Читать далее