Вы можете быть уверены, что купите ICP Etching Carrier на нашем заводе, и мы предложим вам лучшее послепродажное обслуживание и своевременную доставку. Токоприемник пластины Semicorex изготовлен из графита, покрытого карбидом кремния, с использованием процесса химического осаждения из паровой фазы (CVD). Этот материал обладает уникальными свойствами, среди которых высокая температурная и химическая стойкость, отличная износостойкость, высокая теплопроводность, высокая прочность и жесткость. Эти свойства делают его привлекательным материалом для различных высокотемпературных применений, включая системы травления с индуктивно-связанной плазмой (ICP).
Мы предоставляем индивидуальное обслуживание, помогаем вам внедрять инновации с использованием компонентов, которые служат дольше, сокращают время цикла и повышают производительность.
Травильный диск Semicorex SiC ICP – это не просто компоненты; это важнейший фактор развития передового производства полупроводников. Поскольку полупроводниковая промышленность продолжает неустанно стремиться к миниатюризации и повышению производительности, спрос на современные материалы, такие как SiC, будет только усиливаться. Он обеспечивает точность, надежность и производительность, необходимые для развития нашего технологического мира. Мы в Semicorex специализируемся на производстве и поставке высокопроизводительных дисков для травления SiC ICP, которые сочетают качество с экономической эффективностью.**
Читать далееОтправить запросSemicorex SiC Susceptor для ICP Etch производится с упором на поддержание высоких стандартов качества и стабильности. Надежные производственные процессы, используемые для создания этих токоприемников, гарантируют, что каждая партия соответствует строгим критериям производительности, обеспечивая надежные и стабильные результаты при травлении полупроводников. Кроме того, Semicorex предлагает быстрые графики поставок, что имеет решающее значение для удовлетворения быстро меняющихся требований полупроводниковой промышленности, гарантируя соблюдение сроков производства без ущерба для качества. Мы в Semicorex стремимся производить и поставлять высокопроизводительные SiC-приемник для ICP-травления, сочетающий качество с экономичностью.**
Читать далееОтправить запросКомпонент ICP с SiC-покрытием Semicorex разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря тонкому кристаллическому покрытию SiC наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость.
Читать далееОтправить запросКогда дело доходит до таких процессов обработки пластин, как эпитаксия и MOCVD, высокотемпературное SiC-покрытие Semicorex для камер плазменного травления является лучшим выбором. Наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость благодаря тонкому кристаллическому покрытию SiC.
Читать далееОтправить запросЛоток для плазменного травления Semicorex ICP разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря стабильной стойкости к высокотемпературному окислению до 1600°C наши носители обеспечивают равномерные температурные профили, ламинарный характер потока газа и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.
Читать далееОтправить запросНоситель Semicorex с покрытием SiC для системы плазменного травления ICP представляет собой надежное и экономичное решение для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Наши носители имеют тонкое кристаллическое покрытие SiC, которое обеспечивает превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость.
Читать далееОтправить запрос