Насадка для душа SiC (карбид кремния) — это специальный компонент, используемый в различных промышленных процессах, особенно в производстве полупроводников. Он предназначен для равномерного и точного распределения и подачи технологических газов во время процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD) и эпитаксиального выращивания.
Насадка для душа имеет форму диска или пластины с множеством равномерно расположенных отверстий или форсунок на ее поверхности. Эти отверстия служат выходными отверстиями для технологических газов, что позволяет вводить их в технологическую камеру или реакционную камеру. Размер, форма и расположение отверстий могут варьироваться в зависимости от конкретного применения и технологических требований.
Одним из ключевых преимуществ использования насадки для душа из карбида кремния является ее превосходная теплопроводность. Это свойство обеспечивает эффективную теплопередачу и равномерное распределение температуры по поверхности насадки для душа, предотвращая возникновение горячих точек и обеспечивая стабильные условия процесса. Улучшенная теплопроводность также позволяет быстро охлаждать насадку душа после процесса, сводя к минимуму время простоя и повышая общую производительность.
Насадки для душа SiC очень прочны и устойчивы к износу даже при длительном воздействии агрессивных газов и высоких температур. Такой длительный срок службы приводит к увеличению интервалов технического обслуживания и сокращению времени простоя оборудования, что приводит к экономии средств и повышению надежности технологического процесса.
В дополнение к своей прочности душевые насадки из карбида кремния предлагают отличные возможности распределения газа. Точно спроектированные схемы и конфигурации отверстий обеспечивают равномерный поток газа и его распределение по поверхности подложки, способствуя равномерному осаждению пленки и повышению производительности устройства. Равномерное распределение газа также помогает свести к минимуму колебания толщины пленки, состава и других критических параметров, способствуя улучшению управления технологическим процессом и выходу продукции.
Semicorex предлагает насадку для душа из спеченного полупроводника из карбида кремния с низким удельным сопротивлением. У нас есть возможность разрабатывать и поставлять передовые керамические материалы, используя множество уникальных возможностей.
Насадка для душа Semicorex CVD-SiC отличается долговечностью, отличной терморегуляцией и устойчивостью к химическому разложению, что делает ее подходящим выбором для требовательных процессов CVD в полупроводниковой промышленности. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросВ плазменном аппарате для травления и химического осаждения из паровой фазы (CVD) материалов на пластины технологические газы подаются в технологическую камеру через графитовую душевую головку с CVD-покрытием SiC. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запрос