Китай CVD-печь Производители, Поставщики, Фабрика

Печи CVD, используемые для процесса химического осаждения из паровой фазы (CVD). Химическое осаждение из паровой фазы — это процесс, при котором тонкая пленка наносится на подложку с помощью химической реакции между испаренными газами-предшественниками и нагретой поверхностью.

Печи CVD обычно состоят из вакуумной камеры, системы подачи газа, системы нагрева и держателя подложки. Вакуумная камера используется для удаления воздуха и других газов из среды осаждения, чтобы примеси не мешали процессу осаждения. Система подачи газа доставляет газы-предшественники к поверхности подложки, где они вступают в реакцию с образованием желаемой тонкой пленки. Система нагрева нагревает субстрат до температуры, необходимой для протекания реакции. Держатель подложки используется для удержания подложки на месте во время процесса осаждения.

В процессе CVD газы-предшественники вводятся в вакуумную камеру и нагреваются до температуры, при которой они разлагаются и реагируют с образованием тонкой пленки на нагретой подложке. Температура и давление среды осаждения тщательно контролируются, чтобы гарантировать достижение желаемых свойств пленки.

Печи CVD широко используются в полупроводниковой промышленности для осаждения тонких пленок для изготовления микроэлектронных устройств, таких как интегральные схемы и солнечные элементы. Они также используются в производстве передовых материалов, таких как покрытия, оптические волокна и сверхпроводники.