Реакторная система жидкофазной эпитаксии (ЖФЭ)

Реакторная система для жидкофазной эпитаксии (LPE) Semicorex — это инновационный продукт, который обеспечивает превосходные тепловые характеристики, равномерный термический профиль и превосходную адгезию покрытия. Его высокая чистота, стойкость к высокотемпературному окислению и коррозионная стойкость делают его идеальным выбором для использования в полупроводниковой промышленности. Возможности настройки и экономичность делают его высококонкурентным продуктом на рынке.

Отправить запрос

Описание продукта

Наша реакторная система жидкофазной эпитаксии (ЖФЭ) представляет собой высоконадежный и долговечный продукт, обеспечивающий отличное соотношение цены и качества. Его стойкость к высокотемпературному окислению, равномерный термический профиль и предотвращение загрязнения делают его идеальным для высококачественного роста эпитаксиального слоя. Низкие требования к обслуживанию и возможность индивидуальной настройки делают его высококонкурентным продуктом на рынке.

В Semicorex мы уделяем особое внимание предоставлению нашим клиентам высококачественной и экономически эффективной продукции. Наша реакторная система жидкофазной эпитаксии (ЖФЭ) имеет ценовое преимущество и экспортируется на многие европейские и американские рынки. Мы стремимся стать вашим долгосрочным партнером, предоставляя продукцию стабильного качества и исключительное обслуживание клиентов.

Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать больше о нашей реакторной системе жидкофазной эпитаксии (ЖФЭ).

Параметры реакторной системы жидкофазной эпитаксии (ЖФЭ)

Основные характеристики покрытия CVD-SIC
Свойства SiC-CVD
Кристаллическая структура	FCC β-фаза
Плотность	г/см³	3.21
Твердость	Твердость по Виккерсу	2500
Размер зерна	мкм	2~10
Химическая чистота	%	99.99995
Теплоемкость	Дж кг-1 К-1	640
Температура сублимации	℃	2700
Фелексуральная сила	МПа (RT 4-точечный)	415
Модуль Юнга	Gpa (изгиб 4 пт, 1300 ℃)	430
Тепловое расширение (CTE)	10-6К-1	4.5
Теплопроводность	(Вт/мК)	300

Особенности реакторной системы жидкофазной эпитаксии (ЖФЭ)

- И графитовая подложка, и слой карбида кремния имеют хорошую плотность и могут играть хорошую защитную роль в условиях высоких температур и агрессивных рабочих сред.

- Токоприемник с покрытием из карбида кремния, используемый для выращивания монокристаллов, имеет очень высокую плоскостность поверхности.

- Уменьшите разницу в коэффициенте теплового расширения между графитовой подложкой и слоем карбида кремния, эффективно улучшите прочность соединения, чтобы предотвратить растрескивание и расслоение.

- И графитовая подложка, и слой карбида кремния обладают высокой теплопроводностью и отличными свойствами распределения тепла.

- Высокая температура плавления, стойкость к высокотемпературному окислению, коррозионная стойкость.