Эпитаксиальное осаждение CVD в бочковом реакторе

Наш реактор для эпитаксиального осаждения CVD в цилиндрическом корпусе — это высокопроизводительный продукт, предназначенный для обеспечения надежной работы в экстремальных условиях. Превосходная адгезия покрытия, стойкость к высокотемпературному окислению и коррозионная стойкость делают его отличным выбором для использования в суровых условиях. Кроме того, равномерный термический профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения обеспечивают высокое качество эпиксиального слоя.

В Semicorex мы уделяем особое внимание предоставлению нашим клиентам высококачественной и экономически эффективной продукции. Наш реактор для эпитаксиального осаждения CVD в бочонке имеет ценовое преимущество и экспортируется на многие европейские и американские рынки. Мы стремимся стать вашим долгосрочным партнером, поставляя продукцию стабильного качества и обеспечивая исключительное обслуживание клиентов.

Параметры эпитаксиального осаждения CVD в цилиндрическом реакторе

Особенности эпитаксиального осаждения CVD в цилиндрическом реакторе

- И графитовая подложка, и слой карбида кремния имеют хорошую плотность и могут играть хорошую защитную роль в условиях высоких температур и агрессивных рабочих сред.

- Токоприемник с покрытием из карбида кремния, используемый для выращивания монокристаллов, имеет очень высокую плоскостность поверхности.

- Уменьшите разницу в коэффициенте теплового расширения между графитовой подложкой и слоем карбида кремния, эффективно улучшите прочность соединения, чтобы предотвратить растрескивание и расслоение.

- И графитовая подложка, и слой карбида кремния обладают высокой теплопроводностью и отличными свойствами распределения тепла.

- Высокая температура плавления, стойкость к высокотемпературному окислению, коррозионная стойкость.