Компоненты с покрытием TaC при эпитаксиальном выращивании

Компоненты с покрытием Semicorex TaC при эпитаксиальном выращивании представляют собой деталь прямоугольной формы, которая в основном отвечает за поступление воздуха в печь CVD. Таким образом, это важный компонент, и он сталкивается со строгими условиями окружающей среды, высокой температурой и наличием агрессивных газов. Это объясняет причину, по которой мы выбрали графит с покрытием TaC.

ПреимуществаПокрытие из карбида тантала (TaC)

Покрытия из карбида тантала (TaC) необходимы для некоторых из наиболее важных частей систем воздухозаборника, предназначенных для использования в суровых условиях, например, в печи химического осаждения из паровой фазы (CVD). Высокая температура и воздействие агрессивных газов в CVD-печи создают очень сложные условия труда. Благодаря своему потенциалу обеспечения превосходной химической инертности и устойчивости к коррозии и разрушению, использование покрытий TaC на воздухозаборниках компонентов с покрытием TaC при эпитаксиальном росте значительно снизит вероятность создания дефектных частиц, тем самым продлевая срок службы компонента и обеспечивая высочайший выход и качество собранных эпителиальных пленок.

Совершенство технологий нанесения покрытий

Semicorex использует передовую технологию CVD для производстваКомпоненты с покрытием TaC при эпитаксиальном выращиванииЧтобы соответствовать самым строгим сегодняшним отраслевым стандартам как по производительности, так и по качеству. Точность, с которой Semicorex производит покрытия TaC, подтверждается высоким качеством изготавливаемых покрытий.

Оптимизированный выбор подложки

Характеристики детали с покрытием в основном зависят от качества ее подложки. Выбор наиболее подходящего графитового основного материала для прямоугольных труб Semicorex с TaC-покрытием тщательно производится нашей командой инженеров с учетом ряда важных критериев, а именно:

Мы выбираем марку графита исходя из его физических свойств, чтобы добиться максимально прочной связи между покрытием TaC и графитовой подложкой. Это обеспечивает максимальную адгезию покрытия TaC к графитовой подложке.

Графит, используемый для изготовления наших прямоугольных трубок с покрытием TaC, должен быть чрезвычайно высокой чистоты, чтобы свести к минимуму возможность выделения газа и загрязнения во время высокотемпературного процесса CVD.

Наши строгие процессы поиска и контроля качества гарантируют, что каждая партия графитовой подложки, которую мы используем, имеет одинаковые характеристики материала. Это позволяет нам каждый раз производить прямоугольные трубы с покрытием TaC с одинаковыми эксплуатационными характеристиками.

Проверенная надежность и партнерство

Наши компоненты с эпитаксиальным покрытием TaC были тщательно протестированы и одобрены многими крупнейшими и наиболее уважаемыми производителями полупроводниковой промышленности. Эти производители зарекомендовали продукцию Semicorex как надежный стандарт для использования в важнейших приложениях эпитаксиального выращивания.

Мы понимаем, что поставка комплектующих является важной составляющей вашего производственного процесса. Вот почему компания Semicorex взяла на себя обязательство стать долгосрочным партнером, поставляя высококачественную и надежную продукцию, а также превосходно обеспечивая логистику и послепродажную поддержку, чтобы ваш бизнес работал бесперебойно и бесперебойно.