> Новости > Новости отрасли

Новости отрасли

Infineon представляет первую в мире 300-мм пластину Power GaN

Недавно компания Infineon Technologies объявила об успешной разработке первой в мире технологии изготовления пластин из нитрида галлия (GaN) толщиной 300 мм.

Производство монокристаллического кремния

Тремя основными методами, используемыми при производстве монокристаллического кремния, являются метод Чохральского (CZ), метод Киропулоса и метод зоны плавания (FZ).

Окисление при обработке полупроводников

Процессы окисления играют решающую роль в предотвращении таких проблем, создавая на пластине защитный слой, известный как оксидный слой, который действует как барьер между различными химическими веществами.

Что такое нитрид кремния

Нитрид кремния (Si3N4) является ключевым материалом при разработке современной высокотемпературной конструкционной керамики.

Понимание различий в травлении между пластинами кремния и карбида кремния

Процесс травления: кремний против карбида кремния

Что такое электростатический патрон (ESC)?

В производстве полупроводников точность и стабильность процесса травления имеют первостепенное значение. Одним из важнейших факторов достижения высококачественного травления является обеспечение идеально ровного положения пластин на лотке во время процесса.

<...9 10 11 12 13...29 >