> Новости > Новости отрасли

Новости отрасли

Полупроводники четвертого поколения Оксид галлия/β-Ga2O3

Полупроводниковые материалы первого поколения представлены в основном кремнием (Si) и германием (Ge), популярность которых начала расти в 1950-х годах. Вначале германий доминировал и в основном использовался в низковольтных, низкочастотных транзисторах и фотодетекторах средней мощности, но из-за его......

Бездефектный эпитаксиальный рост и дислокации несоответствия

Бездефектный эпитаксиальный рост происходит, когда одна кристаллическая решетка имеет почти идентичные постоянные решетки другой. Рост происходит при приблизительном совпадении узлов двух решеток в интерфейсной области, что возможно при небольшом несовпадении решеток (менее 0,1%). Такое приближенное......

Процесс окисления

Самой основной стадией всех процессов является процесс окисления. Процесс окисления заключается в помещении кремниевой пластины в атмосферу окислителей, таких как кислород или водяной пар, для высокотемпературной термообработки (800 ~ 1200 ℃), при этом на поверхности кремниевой пластины происходит х......

Почему эпитаксия нитрида глия (GaN) не растет на подложке GaN?

Рост эпитаксии GaN на подложке GaN представляет собой уникальную задачу, несмотря на превосходные свойства материала по сравнению с кремнием. Эпитаксия GaN предлагает значительные преимущества с точки зрения ширины запрещенной зоны, теплопроводности и электрического поля пробоя по сравнению с матери......

Как выполнить процесс CMP

В процессе производства кремниевых пластин после того, как кристаллический стержень разрезается на кремниевые пластины, его необходимо отполировать и очистить, чтобы получить монокристаллическую кремниевую пластину, подобную зеркалу.

Что такое процесс CMP

В производстве полупроводников плоскостность на атомном уровне обычно используется для описания глобальной плоскостности пластины в единицах нанометров (нм).

<...7 8 9 10 11...22 >