Вафельный вакуумный патрон

Сверхчистые керамические компоненты Semicorex идеально подходят для задач литографии нового поколения и обработки пластин, обеспечивая минимальное загрязнение и исключительно длительный срок службы. Наш вакуумный патрон для пластин имеет хорошее ценовое преимущество и охватывает многие рынки Европы и Америки. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Отправить запрос

Описание продукта

Сверхплоский керамический вакуумный зажим для пластин Semicorex имеет карбид кремния высокой чистоты, используемый в процессе обработки пластин. Вакуумный зажим для полупроводниковых пластин с помощью оборудования MOCVD. Соединение для выращивания обладает высокой термостойкостью и коррозионной стойкостью, что обеспечивает большую стабильность в экстремальных условиях и улучшает управление выходом при обработке полупроводниковых пластин. Конфигурации с малым контактом с поверхностью минимизируют риск попадания частиц на обратную сторону для чувствительных применений.

В Semicorex мы уделяем особое внимание предоставлению высококачественных и экономичных вакуумных зажимов для пластин, мы уделяем приоритетное внимание удовлетворению потребностей клиентов и предоставляем экономически эффективные решения. Мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером, предоставляющим высококачественную продукцию и исключительное обслуживание клиентов.

Параметры вакуумного патрона для пластин

Основные характеристики покрытия CVD-SIC
Свойства SiC-CVD
Кристаллическая структура	FCC β-фаза
Плотность	г/см³	3.21
Твердость	Твердость по Виккерсу	2500
Размер зерна	мкм	2~10
Химическая чистота	%	99.99995
Теплоемкость	Дж кг-1 К-1	640
Температура сублимации	℃	2700
Фелексуральная сила	МПа (RT 4-точечный)	415
Модуль Юнга	Gpa (изгиб 4 пт, 1300 ℃)	430
Тепловое расширение (CTE)	10-6К-1	4.5
Теплопроводность	(Вт/мК)	300