Вакуумные патроны

Полукикс-вакуумные патроны представляют собой точные решения, разработанные для обеспечения безопасной, стабильной и эффективной обработки пластин в процессах производства полупроводников. Эти вакуумные патроны в основном используются для удержания пластин на различных этапах обработки, обеспечивая минимальный ущерб пластинкам, максимальную стабильность и повышенную эффективность процесса. Наши вакуумные патроны доступны в различных базовых материалах и керамических тарелках, предлагая индивидуальные решения для удовлетворения разнообразных потребностей полупроводниковой промышленности и других точных отраслей.

Ключевые функции и материалы

Semicorex предлагает ряд вариантов базового материала для вакуумного патрона, позволяя настройку на основе конкретных требований применения:

Базовые материалы:

• SUS430: основание из нержавеющей стали, известный своей прочностью и коррозионной стойкостью, обеспечивая отличную механическую стабильность.
• Алюминиевый сплав 6061: Легкий, но прочный, эта алюминиевая база обеспечивает высокую коррозионную стойкость и идеально подходит для применений, где вес вызывает беспокойство.
• Керамика глинозема (99% глинозем): обеспечивает высокую тепловую стабильность и устойчивость к износу. Это отличный выбор для высоких средств, где термическое сопротивление имеет решающее значение.
• Гранит: Гранит, известный своей жесткостью и превосходными вибрационными свойствами, предлагает превосходную стабильность и точность во время обработки пластин.
• Керамика из карбида кремния (SIC): обеспечивает высокую твердость, теплопроводность и устойчивость к химической коррозии. Он идеально подходит для высокотемпературных и агрессивных сред.

Керамические пластины:

Алюминия (Al₂o₃): глиноземные пластины известны своими высокими электроизоляционными свойствами, износостойкой и высокой температурной стабильностью. Они подходят для среды, где минимальное загрязнение и высокая производительность имеют решающее значение.

Кремниевый карбид (SIC): керамические пластины SIC обеспечивают исключительную твердость, высокую теплопроводность и стабильность при повышенных температурах, что делает их идеальными для передовых процессов обработки пластин при производстве полупроводника.

Точность плоскостности и выбор материала

Плохость поверхности патрона является критическим фактором в обеспечении правильной обработки пластин и оптимальных результатов процесса. Выбор материала влияет на точность плоскостности, а также на общий вес и тепловые свойства вакуумного патрона.

Точность плоскостности:

Алюминиевый сплав 6061: обеспечивает отличную плоскостность с точностью, что делает его популярным выбором для менее требовательных задач обработки пластин.

SUS430: предлагая твердую механическую стабильность, SUS430 имеет немного более низкую плоскостность, чем алюминиевый сплав.

Керамика из оксида алюминия (99% глинозем): предлагает наилучшую точность плоскостности из -за его высокой стабильности при высоких температурах и механическом напряжении.

Гранит: известный своей стабильностью, гранит обеспечивает точную плоскостность, особенно в чувствительной к вибрации сред.

Керамика из карбида кремния: обеспечивает выдающуюся точность плоскостности и идеально подходит для высокой обработки пластин в высокотемпературных приложениях.

Веса соображения

Вес вакуумного патрона является еще одним важным фактором, особенно для применений, где простота обработки и манипуляции Чака является ключевым фактором.