Силиконовая вафельная лодочка

Еще одно преимуществокарбид кремнияКремний имеет относительно низкую твердость, что снижает механические повреждения пластин, тем самым улучшая скорость прохождения решетки и эффективно снижая производственные затраты. Лодочка из плавленого кремния состоит из нескольких частей: зубьев, опорной пластины и верхней пластины, которые сплавлены вместе. Это снижает затраты на производство. В случае частичного повреждения поврежденные детали можно заменить без замены всей кремниевой лодки, что значительно снижает затраты на владение во время использования. Кроме того, кремниевая лодка имеет большой верхний предел осаждения поликремния, что позволяет эффективно снизить частоту использования оборудования PM и повысить производственную мощность.

Semicorex Silicon Wafer Boat — это инновационный, специально разработанный держатель для вафель. Он специально создан для высокотемпературной печной обработки, используемой в полупроводниковой промышленности, включая процессы окисления и восстановления при температурах от 1200 до 1250 °C. Обладая преимуществами производительности, недоступными для материала из карбида кремния (SiC), Silicon Wafer Boat обеспечивает преимущества, необходимые для строгих процессов, необходимых для производства полупроводников. Во-первых, важна сверхвысокая чистота кремниевого материала; на самом деле,кремниевый материалдостигает сверхвысокого уровня чистоты более 9N (99,9999999%), что гарантирует, что никакие металлические или посторонние примеси не будут загрязнять процесс обработки пластин. Это имеет решающее значение для передового производства полупроводниковых приборов, где надежность работы и производительность сильно зависят от загрязнений. Лодочка для кремниевых вафель обеспечивает сверхчистую среду с высоким уровнем чистоты, соответствующую самым передовым отраслевым требованиям по обращению с пластинами, подвергающимися очень высоким температурам для окислительной и восстановительной обработки.

Еще одно преимуществокремниевый материалявляется его более низкая твердость по сравнению с материалом SiC. Карбидные бруски или лодочки известны своей твердостью и прочностью, но само это свойство может привести к трудностям при обработке пластин. При высоких температурах пластины будут микроперемещаться; они будут слегка подпрыгивать, слегка смещаться и деформироваться по краям, находясь внутри лодки. Более твердый материал SiC может представлять более высокий риск образования частиц или царапин на обратной стороне пластины, поскольку свойства пластины и лодочки взаимодействуют в условиях высокотемпературной обработки.

Silicon Wafer Boat решает эту проблему, используя преимущество относительно мягкого характера кремния по отношению к SiC. Снижение твердости позволяет уменьшить трение и механическое напряжение при контакте пластин с лодочкой во время термических циклов. В результате частицы образуются реже, а риск царапин на задней стороне сводится практически к нулю. Кроме того, минимизируя поверхностные дефекты, Silicon Wafer Boat напрямую улучшает качество решетки и повышает общий уровень квалификации обработанных пластин. Для заводов по производству полупроводников, желающих повысить производительность при максимальном контроле качества, такой уровень производительности делает кремниевую лодочку привлекательным вариантом.

Кремний обеспечивает хорошую стабильность и механическую прочность при высоких температурах, что позволяет лодочке надежно служить во время повторяющихся циклов печи. Материал устойчив к деформации во время циклов нагрева и охлаждения и, таким образом, обеспечивает точное размещение пластин и допуски на позиционирование даже во время быстрых циклов печи. Такая термическая устойчивость обеспечивает надежные результаты процесса, которые достаточно стабильны для крупносерийного производства с минимальными отклонениями между циклами. Лодочка для кремниевых вафель сконструирована с высокой точностью размеров, чтобы обеспечить постоянное позиционирование и размещение пластин. Лодка изготовлена ​​с использованием передовой механической обработки и полировки для создания гладких поверхностей, точной геометрии и жестких допусков.