Кремниевый инжектор

Semicorex Silicon Injector — это компонент сверхвысокой чистоты, предназначенный для точной подачи газа в системах химического осаждения из паровой фазы низкого давления (LPCVD) для осаждения поликремния и тонких пленок. Изготовлен из 9N (99,9999999%)кремний высокой чистотыЭтот тонкий трубчатый инжектор обеспечивает превосходную чистоту, совместимость с химикатами и термическую стабильность в экстремальных технологических условиях.

Поскольку производство полупроводников продолжает развиваться в направлении более высокого уровня интеграции и более жесткого контроля загрязнения, каждый компонент подачи газа в камере осаждения также должен будет соответствовать более высоким стандартам, чем раньше. Кремниевый инжектор Semicorex был разработан специально для таких требований: он обеспечивает стабильную и равномерную подачу газообразных материалов по всей реакционной камере без внесения загрязнений, которые отрицательно влияют на качество пленки или выход пластин.

Инжектор изготавливается из монокристаллического или поликристаллического кремния в зависимости от технологических требований, а материал разработан с низким содержанием металлических, твердых и ионных примесей. Это обеспечивает совместимость с ультрачистыми условиями LPCVD, где даже следы загрязнения могут вызвать дефект пленки или выход из строя устройства. Использование кремния в качестве основного материала также уменьшает несоответствие материалов между инжектором и кремниевыми компонентами камеры, что значительно снижает риск образования частиц или химических реакций во время использования и работы при высоких температурах.

Специальная трубчатая структура кремниевого инжектора обеспечивает контролируемое и равномерное распределение газа по равномерной загрузке пластин. Микроконструированные отверстия и гладкая внутренняя поверхность обеспечивают воспроизводимую скорость потока наряду с ламинарной динамикой газа, что имеет решающее значение для постоянной толщины пленки и стабильной скорости осаждения в печи. Будь то силан (SiH₄), дихлорсилан (SiH₂Cl₂) или другие химически активные газы, инжектор обеспечивает надежную производительность и точность, необходимую для выращивания пленки поликремния хорошего качества.

Благодаря превосходной термической стабильности кремниевый инжектор Semicorex выдерживает температуру до 1250 °C, и его можно контролировать, не опасаясь деформации, растрескивания или коробления во время нескольких циклов высокотемпературной LPCVD. Кроме того, его высокая стойкость к окислению и химическая инертность обеспечивают длительный срок службы в окислительной, восстановительной или агрессивной атмосфере, одновременно сокращая объем технического обслуживания и обеспечивая стабильность процесса.

Каждый инжектор изготавливается с использованием современной механической обработки и полировки на станке с ЧПУ, что обеспечивает субмикронные допуски на размеры и ультрагладкую поверхность. Высококачественная обработка поверхности сводит к минимуму турбулентность газа, образуя очень мало частиц или вообще не создавая их, обеспечивая при этом постоянные характеристики потока при непостоянных изменениях температуры и давления. Точное производство обеспечивает строго контролируемые процессы, воспроизводимость и надежность результатов и, следовательно, стабильную работу оборудования.

Semicorex производит кремниевые инжекторы на заказ, доступные в нестандартной длине, диаметре и конфигурации сопел. Могут быть разработаны индивидуальные решения для улучшения структуры газовой дисперсии для одноразовых геометрий реакторов или рецептов осаждения. Каждый инжектор проверяется и проверяется на чистоту, чтобы обеспечить высочайший уровень полупроводникового уровня.кремниевые компоненты.

Кремниевый инжектор Semicorex обеспечивает точность и чистоту, необходимые в современном производстве полупроводников. Использование кремния сверхвысокой чистоты 9N, микронной точности обработки, а также высокой термической и химической стабильности обеспечивает равномерное распределение газа, меньшее образование частиц и исключительную надежность при нанесении поликремния LPCVD.