Вакуумный пакет из карбида кремния

Получики кремниевого вакуумного патрона является важной частью производства полупроводников для процессов, нуждающихся в высокой точности и низком загрязнении. Вакуумные патроны изготовлены из пористой кремниевой карбидной керамики с высокой чистотой кремниевой карбинкой и обеспечивают превосходную механическую прочность, теплопроводность и химическую инертность, а также оснащены точно контролируемой структурой пор для надежного удержания вакуума. Кремниевый карбидный вакуумный патрон представляет собой функциональное адсорбционное устройство, изготовленное из керамического материала из карбида из кремниевого карбида (sic), которое опирается на вакуумное негативное давление, электростатическую адсорбцию или механическое зажим, чтобы обеспечить стабильное понимание заготовки. Вакуумные патроны имеют использование в полупроводниках, фотоэлектрическом, точном производстве и других приложениях, которые имеют чрезвычайно высокие потребности в высокотемпературной стойкости, устойчивости к износу и чистоте материала.

Основаниепатронявляется пористым материалом SIC, который имеет предсказуемую воздушную проницаемость по всей поверхности. Это означает, что можно безопасно адсорбировать пластину без механического зажима и, следовательно, нематериализации потенциала физического повреждения или загрязнения образца. Пористость материала строго контролируется - обычно имеет пористость 35-40% - для обеспечения надлежащего распределения вакуума, но также и удовлетворения структурных требований для прочного термического и механического цикла.

Ваферные вакуумные патроныобычно изготавливаются из твердой поверхности с множеством небольших отверстий или каналов на поверхности. Через эти небольшие отверстия патрон может быть подключен к вакуумному насосу, который создает вакуумный эффект. Когда пластина помещается на патрон, вакуумный насос включается, а воздух протягивается через небольшие отверстия, создавая вакуум между пластиной и патроном. Этот вакуумный эффект создает достаточное количество всасывания, чтобы твердо прикрепить пластину к поверхности патрона.

Керамические поверхности часто используются в приложениях, которые требуют высокой чистоты и химической стабильности. Керамика-это материалы, производимые высокотемпературным слиянием минералов. Вообще говоря, керамика представляют собой электрические изоляторы или полупроводники и обладают высокой сопротивлением термическим распадам, эрозии и повреждениям.

Semicorex создает нестандартный вакуумный вакуумный патрон кремниевого карбида для технических характеристик клиента для таких вещей, как размеры, пористость, отделка поверхности и узоры для вакуумного канала. В результате наших возможностей для производства и чистой комнаты мы предлагаем лучшее в низком выбросе частиц и чистоте, чтобы удовлетворить требования к чистоте всех полупроводниковых производителей и производителей оборудования.

Мы можем сделать патрон для любого размера пластины, от 2 дюйма до 12-дюймовой пластины и адаптировать для интеграции патрона в множество оборудования для обработки пластины. Его можно использовать для передних процессов и/или обратных процессов, что делает вакуумный патрон SIC экономичным, точным, стабильным и беззагрязненным средством поддержки пластин в рабочем процессе полупроводника.

Силиконовый карбидовый вакуумный патрон является важным инструментом в современном производстве полупроводников, объединяющих лучшие материалы и машиностроения. Прочная и приверженная надежность через термические и химические крайности делают его идеальной поддержкой в приложениях процесса, которые включают, восковые, истончение, очистку и RTA. Приобретая свой вакуумный патрон кремниевого карбида через Semicorex, вы обеспечиваете наилучшую чистоту материала, пользовательские решения и надежную производительность для превосходных результатов по всем ваферам.