SiC вакуумный патрон

Вакуумный патрон Semicorex SiC — это специально разработанный инструмент, который надежно удерживает полупроводниковые пластины на критических этапах обработки с максимальной стабильностью и надежностью. Карбид кремния Карбид кремния CVD-покрытие вакуумного патрона обеспечивает исключительную механическую прочность, химическую стойкость и термическую стабильность, гарантируя защиту деликатных пластин от любого потенциального повреждения или загрязнения.

Уникальное сочетание графита и покрытия SiC, используемое в вакуумном патроне SiC, обеспечивает высокую теплопроводность и минимальный коэффициент теплового расширения. Это обеспечивает эффективный отвод тепла и равномерное распределение температуры по поверхности пластины. Эти особенности необходимы для поддержания оптимальных условий обработки и повышения производительности в процессах производства полупроводников.

Вакуумный патрон SiC также совместим с вакуумной средой, обеспечивая превосходное сцепление между патроном и пластиной. Это исключает риск проскальзывания или смещения во время высокоточных операций. Его непористая поверхность и инертные свойства дополнительно предотвращают выделение газов или загрязнение частицами, обеспечивая чистоту и целостность среды производства полупроводников.

Вакуумный патрон Semicorex SiC — это краеугольная технология в производстве полупроводников, обеспечивающая непревзойденную производительность и долговечность для удовлетворения растущих потребностей отрасли. Независимо от того, используется ли это передовое решение в литографии, травлении, осаждении или других важных процессах, оно продолжает переопределять стандарты качества в обработке полупроводниковых пластин.