Несущая пластина Semicorex SiC Graphite RTP для MOCVD обеспечивает превосходную термостойкость и термическую однородность, что делает ее идеальным решением для обработки полупроводниковых пластин. Этот продукт с высококачественным графитовым покрытием SiC спроектирован так, чтобы выдерживать самые суровые условия осаждения для эпитаксиального роста. Высокая теплопроводность и отличные свойства распределения тепла обеспечивают надежную работу при RTA, RTP или жесткой химической очистке.
Наша несущая пластина SiC Graphite RTP для MOCVD для MOCVD эпитаксиального роста является идеальным решением для обработки пластин и эпитаксиального роста. Обладая гладкой поверхностью и высокой стойкостью к химической очистке, этот продукт обеспечивает надежную работу в суровых условиях осаждения.
Материал нашей несущей пластины RTP из карбида кремния и графита для MOCVD разработан таким образом, чтобы предотвратить появление трещин и расслоения, а превосходная термостойкость и термическая однородность обеспечивают стабильные характеристики при RTA, RTP или жесткой химической очистке.
Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать больше о нашей несущей пластине SiC Graphite RTP для MOCVD.
Параметры несущей пластины SiC Graphite RTP для MOCVD
Основные характеристики покрытия CVD-SIC |
||
SiC-ХОПФ свойства |
||
Кристальная структура |
Фаза FCC β |
|
Плотность |
г/см³ |
3.21 |
твердость |
твердость по Виккерсу |
2500 |
Размер зерна |
μ м |
2~10 |
Химическая чистота |
% |
99.99995 |
Теплоемкость |
Дж·кг-1 ·К-1 |
640 |
Температура сублимации |
℃ |
2700 |
Фелексурная сила |
МПа (4-балльная КТ) |
415 |
Модуль Юнга |
ГПа (изгиб 4pt, 1300°C) |
430 |
Тепловое расширение (CTE) |
10-6К-1 |
4.5 |
Теплопроводность |
(Вт/мК) |
300 |
Характеристики несущей пластины SiC Graphite RTP для MOCVD
Графит высокой чистоты с покрытием SiC
Превосходная термостойкость и тепловая однородность
Мелкие кристаллы карбида кремния с покрытием для получения гладкой поверхности
Высокая стойкость к химической очистке
Материал разработан таким образом, чтобы не возникало трещин и расслаивания.