Трубка диффузионной печи SiC

Высокая прочность на изгиб: трубка диффузионной печи Semicorex SiC имеет прочность на изгиб, превышающую 200 МПа, что обеспечивает исключительные механические характеристики и структурную целостность в условиях высоких напряжений, типичных для процессов производства полупроводников.

Выдающаяся стойкость к окислению: эти трубы для диффузионных печей SiC демонстрируют превосходную стойкость к окислению, лучшую среди всей неоксидной керамики. Эта характеристика обеспечивает долговременную стабильность и производительность в высокотемпературных средах, снижая риск деградации и продлевая срок службы трубок.

Превосходная коррозионная стойкость: химическая инертность труб диффузионной печи из карбида кремния обеспечивает отличную устойчивость к коррозии, что делает эти трубы идеальными для использования в агрессивных химических средах, часто встречающихся при обработке полупроводников.

Высокая износостойкость: трубка диффузионной печи SiC обладает высокой устойчивостью к износу, что имеет решающее значение для поддержания стабильности размеров и снижения требований к техническому обслуживанию в течение длительных периодов использования в абразивных условиях.

Низкий коэффициент трения. Низкий коэффициент трения SiC диффузионной печи снижает износ как трубок, так и пластин, обеспечивая бесперебойную работу и сводя к минимуму риски загрязнения во время обработки полупроводников.

Превосходные механические свойства при высоких температурах: труба диффузионной печи из карбида кремния демонстрирует лучшие механические свойства при высоких температурах среди известных керамических материалов, включая выдающуюся прочность и сопротивление ползучести. Это делает его особенно подходящим для применений, требующих долговременной стабильности при повышенных температурах.

С покрытием CVD: покрытие SiC методом химического осаждения из паровой фазы (CVD) Semicorex достигает уровня чистоты более 99,9995% с содержанием примесей менее 5 частей на миллион и вредных металлических примесей менее 1 части на миллион. Процесс покрытия CVD обеспечивает соответствие трубок строгим требованиям вакуумной герметичности 2–3 Торр, что важно для высокоточного производства полупроводников.

Применение в диффузионных печах: Эти трубы для диффузионных печей из карбида кремния специально разработаны для использования в диффузионных печах, где они играют решающую роль в высокотемпературных процессах, таких как легирование и окисление. Их передовые свойства материалов гарантируют, что они могут выдерживать сложные условия этих процессов, тем самым повышая эффективность и надежность производства полупроводников.