Компонент Semicorex с покрытием SiC для ИСП разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря покрытию из кристаллов карбида кремния наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость.
Читать далееОтправить запросКогда речь идет о процессах обращения с пластинами, таких как эпитаксия и MOCVD, высокотемпературное покрытие SiC от Semicorex для камер плазменного травления является лучшим выбором. Наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость благодаря покрытию из тонких кристаллов карбида кремния.
Читать далееОтправить запросПлазменный лоток для плазменного травления Semicorex разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Обладая стабильной стойкостью к высокотемпературному окислению до 1600°C, наши носители обеспечивают ровные тепловые профили, ламинарный характер потока газа и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.
Читать далееОтправить запросНоситель Semicorex с покрытием SiC для системы плазменного травления с ИСП — это надежное и экономичное решение для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Наши носители имеют тонкое кристаллическое покрытие SiC, которое обеспечивает превосходную термостойкость, равномерную тепловую однородность и длительную химическую стойкость.
Читать далееОтправить запросТокоприемник Semicorex с покрытием из карбида кремния для индуктивно-связанной плазмы (ICP) разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Обладая стабильной стойкостью к высокотемпературному окислению до 1600°C, наши носители обеспечивают ровные тепловые профили, ламинарный характер газового потока и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.
Читать далееОтправить запросДержатель пластин для травления ICP от Semicorex — идеальное решение для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Обладая стабильной стойкостью к высокотемпературному окислению до 1600°C, наши носители обеспечивают ровные тепловые профили, ламинарный характер газового потока и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.
Читать далееОтправить запрос