Пористая пластина SIC

Semicorex Porous SIC Plate представляет собой высокопроизводительный керамический материал, предназначенный для расширенного полупроводникового и точного производственного применения. Разработана с тонко контролируемой пористой структурой, эта пластина предлагает исключительную механическую прочность, тепловую стабильность и химическую стойкость, что делает ее идеальным выбором для использования в качествевакуумв полупроводниковой обработке.

Обработанная точностью спекания и поровой формирования, пористая пластина SIC имеет равномерную пористость и оптимизированную проницаемость воздуха, обеспечивая безопасную и стабильную адсорбцию тонких пластиков, стеклянных панелей и других деликатных субстратов. Тщательно контролируемое распределение пор по размерам позволит эффективному вакуумному всасыванию при сохранении своих структурных компонентов до самого последнего атома, практически предотвращая деформацию или повреждение материала, предназначенного для дальнейшей обработки: вафли.

Его превосходная теплопроводность делает пористую SIC -пластинку одним из лучших кандидатов для быстрого рассеяния тепла с равномерным распределением температуры по поверхности. Это становится важным во многих видах процессов производства полупроводников для поддержания стабильности в термических условиях, что напрямую связано с выходом и качеством продукта. Кроме того, кремниевый карбид обеспечивает хорошо устойчивость к износу и относительно высокий уровень твердости, что дает более длительный срок службы для тарелки, поскольку износ поверхности и загрязнение откладываются в течение значительного расширенного использования.

Химическая инертность является еще одной жизненно важной характеристикой пористой SIC -пластины. Он демонстрирует сильную устойчивость к кислотам, щелочкам и воздействию плазмы, что делает его хорошо подходящим для суровых среда полупроводникового изготовления, таких как травление, осаждение и химическая обработка. Нереактивный характер SIC предотвращает нежелательные химические взаимодействия, сохраняя чистоту обработанных материалов и повышая надежность производства.

Более того, легкая природа пористого SIC, в сочетании с его надежными механическими свойствами, облегчает легкую обработку и интеграцию в точный механизм. Низкий коэффициент термического расширения обеспечивает размерную стабильность даже при экстремальных колебаниях температуры, минимизируя риск деформации или смещения во время работы.

Пористая пластина SIC может быть настроена для удовлетворения конкретных требований применения, включая изменения пористости, толщины и отделки поверхности. Расширенные методы обработки и полировки могут быть применены для достижения ультра-платовых поверхностей с минимальной шероховатостью, что еще больше повышает его производительность в качестве вакуумного патрона.

Полезная карбида с пористыми кремниевыми карбинами Semicorex представляет собой высокоспециализированный керамический компонент, который обеспечивает комбинацию высокой прочности, превосходной тепловой и химической стабильности и превосходной износостойкой стойкости. Его уникальная пористая структура обеспечивает эффективное вакуумное всасывание, обеспечивая безопасную обработку пластин в полупроводнике и точной промышленности. В результате это важный материал для приложений с высокими конкретными приложениями, где производительность, долговечность и надежность имеют первостепенное значение.