В полупроводниковой промышленности эпитаксиальные слои играют решающую роль, образуя особые монокристаллические тонкие пленки на подложке пластины, известные под общим названием эпитаксиальные пластины. В частности, эпитаксиальные слои карбида кремния (SiC), выращенные на проводящих подложках SiC, п......
Читать далееВ настоящее время большинство производителей подложек SiC используют новую технологию термического поля тигля с цилиндрами из пористого графита: размещение исходных материалов из частиц SiC высокой чистоты между стенкой графитового тигля и цилиндром из пористого графита при одновременном углублении ......
Читать далееЭпитаксиальный рост — это процесс выращивания кристаллографически упорядоченного монокристаллического слоя на подложке. Вообще говоря, эпитаксиальный рост предполагает выращивание кристаллического слоя на монокристаллической подложке, причем выращенный слой имеет ту же кристаллографическую ориентаци......
Читать далееХимическое осаждение из паровой фазы (CVD) относится к технологии процесса, при которой несколько газообразных реагентов при различных парциальных давлениях вступают в химическую реакцию при определенных условиях температуры и давления. Полученное твердое вещество осаждается на поверхности материала......
Читать далееПоскольку глобальное признание электромобилей постепенно растет, карбид кремния (SiC) столкнется с новыми возможностями роста в предстоящем десятилетии. Ожидается, что производители силовых полупроводников и операторы автомобильной промышленности будут более активно участвовать в построении цепочки ......
Читать далее