Новости

Что такое CVD-процесс в полупроводниках?

Химическое осаждение из паровой фазы CVD означает введение двух или более газообразных сырьевых материалов в реакционную камеру в условиях вакуума и высокой температуры, где газообразное сырье реагирует друг с другом с образованием нового материала, который осаждается на поверхность пластины.

Обзор развития фотоэлектрической отрасли

К 2027 году солнечная фотоэлектрическая энергия (PV) обгонит уголь и станет крупнейшей в мире установленной мощностью. По нашему прогнозу, совокупная установленная мощность солнечных фотоэлектрических систем почти утроится, вырастет почти на 1500 гигаватт за этот период и превзойдет природный газ к ......

Промышленные применения GaN

Области применения GaN на основе SiC и GaN строго не разделены. В устройствах GaN-On-SiC стоимость подложки SiC относительно высока, и с ростом зрелости технологии длинных кристаллов SiC ожидается дальнейшее падение стоимости устройства, и оно используется в силовых устройствах в области силовой эле......

О полупроводниковых нагревательных элементах

Термическая обработка является одним из основных и важных процессов в полупроводниковом процессе. Термический процесс — это процесс приложения тепловой энергии к пластине путем помещения ее в среду, заполненную определенным газом, включая окисление/диффузию/отжиг и т. д.

Начало производства пластин 3C-SiC

Теплопроводность объемного 3C-SiC, недавно измеренная, является второй по величине среди крупных кристаллов дюймового размера, занимая место чуть ниже алмаза. Карбид кремния (SiC) представляет собой полупроводник с широкой запрещенной зоной, широко используемый в электронных приложениях, и существуе......

Semicorex представляет 8-дюймовую эпитаксиальную пластину SiC