Материал подложки SiC является основой чипа SiC. Процесс производства подложки заключается в следующем: после получения слитка кристалла SiC путем выращивания монокристалла; затем подготовка подложки SiC требует сглаживания, закругления, резки, шлифовки (утонения); механическая полировка, химико-мех......
Читать далееНедавно наша компания объявила, что компания успешно разработала 6-дюймовый монокристалл оксида галлия методом литья, став первой отечественной промышленной компанией, освоившей технологию подготовки подложки из 6-дюймового монокристалла оксида галлия.
Читать далееКарбид кремния (SiC) — это материал, обладающий исключительной термической, физической и химической стабильностью, демонстрирующий свойства, превосходящие свойства обычных материалов. Его теплопроводность составляет удивительные 84 Вт/(м·К), что не только выше, чем у меди, но и в три раза выше, чем ......
Читать далееВ быстро развивающейся области производства полупроводников даже самые незначительные улучшения могут иметь большое значение для достижения оптимальной производительности, долговечности и эффективности. Одним из достижений, которое вызвало много шума в отрасли, является использование покрытия TaC (к......
Читать далееПроцесс роста монокристаллического кремния преимущественно происходит в тепловом поле, где качество тепловой среды существенно влияет на качество кристаллов и эффективность роста. Конструкция теплового поля играет решающую роль в формировании температурных градиентов и динамики газового потока внутр......
Читать далее