Порошок карбида кремния Semicorex N-типа (SiC) представляет собой легированный материал SiC высокой чистоты, специально разработанный для сложных задач по выращиванию кристаллов. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Порошок карбида кремния Semicorex N-типа (SiC) представляет собой легированный материал SiC высокой чистоты, специально разработанный для сложных задач по выращиванию кристаллов. Этот порошок карбида кремния N-типа характеризуется превосходными электрическими свойствами и структурной целостностью, что делает его идеальным выбором для производства кристаллов карбида кремния, используемых в различных высокопроизводительных полупроводниковых устройствах.
Порошок карбида кремния N-типа легирован азотом (N), который вводит дополнительные свободные электроны в кристаллическую решетку SiC, повышая ее электропроводность. Легирование N-типа имеет решающее значение для приложений, требующих точных электронных свойств. Порошок карбида кремния N-типа подвергается строгим процессам очистки для достижения высокого уровня чистоты, сводя к минимуму присутствие примесей, которые могут повлиять на процесс роста кристаллов и характеристики конечного продукта.
Порошок карбида кремния Semicorex N-типа состоит из мелких частиц одинакового размера, которые способствуют равномерному росту кристаллов и улучшают общее качество кристаллов карбида кремния.
Этот порошок карбида кремния N-типа, который в основном используется для выращивания кристаллов карбида кремния, является неотъемлемой частью производства мощных электронных устройств, высокотемпературных датчиков и различных оптоэлектронных компонентов. Он также подходит для использования в исследованиях и разработках в полупроводниковой промышленности.
Характеристики
Модель | Чистота | Плотность упаковки | Д10 | Д50 | Д90 |
SiC-N-S | >6Н | <1,7 г/см3 | 100 мкм | 300 мкм | 500 мкм |
SiC-N-M | >6Н | <1,3 г/см3 | 500 мкм | 1000 мкм | 2000 мкм |
SiC-N-L | >6Н | <1,3 г/см3 | 1000 мкм | 1500 мкм | 2500 мкм |
Приложения:
Выращивание кристаллов карбида кремния: используется в качестве исходного материала для выращивания высококачественных кристаллов SiC.
Полупроводниковые приборы: идеально подходят для мощных и высокочастотных электронных компонентов.
Высокотемпературная электроника: подходит для приложений, требующих надежной работы в экстремальных условиях.
Оптоэлектроника: используется в устройствах, требующих исключительных тепловых и электрических свойств.