- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Продукты
- View as
CVD SiC плавник
Semicorex CVD SiC Fin — это толстый компонент из твердого карбида кремния высокой плотности, производимый методом химического осаждения из паровой фазы и предназначенный для обработки полупроводников, работающих с плазмой, и сверхвысоких температур, требующих исключительной чистоты, долговечности и коррозионной стойкости. Semicorex поставляет передовые компоненты из карбида кремния CVD производителям полупроводникового оборудования по всему миру, предлагая индивидуальные решения, точное проектирование и надежную глобальную доставку для самых требовательных технологических сред.*
Читать далееОтправить запрос
Кольцо фокусировки CVD SiC для 2L10-506419-21
Кольцо фокусировки Semicorex CVD SiC для 2L10-506419-21, изготовленное из высокоэффективных материалов CVD SiC, является важной деталью кольца, разработанной специально для оборудования TEL VIGUS RK4, используемого в процессах прецизионного травления полупроводников. Выбор Semicorex означает, что вы получите идеальные решения CVD SiC для достижения точных и однородных результатов травления.
Читать далееОтправить запрос
Твердые кольца CVD SiC
Твердые кольца Semicorex CVD SiC представляют собой высокопроизводительные кольцеобразные компоненты, которые в основном используются в реакционных камерах оборудования для плазменного травления в современной полупроводниковой промышленности. Кольца Semicorex Solid CVD SiC проходят строгий отбор материалов и контроль качества, что обеспечивает непревзойденную чистоту материала, исключительную стойкость к плазменной коррозии и стабильные эксплуатационные характеристики.
Читать далееОтправить запрос
Душевые лейки CVD SiC
Душевые насадки Semicorex CVD SiC представляют собой прецизионный компонент высокой чистоты, разработанный для систем травления CCP и ICP в современном производстве полупроводников. Выбор Semicorex означает получение надежных решений с превосходной чистотой материала, точностью обработки и долговечностью для самых требовательных плазменных процессов.*
Читать далееОтправить запрос
Кольцо фокусировки CVD SiC
В результате процесса химического осаждения из паровой фазы (CVD) фокусное кольцо Semicorex CVD SiC тщательно осаждается и подвергается механической обработке для получения конечного продукта. Благодаря превосходным свойствам материала он незаменим в сложных условиях современного производства полупроводников.**
Читать далееОтправить запрос
CVD SiC Душевая насадка
Душевая головка Semicorex CVD SiC — это основной компонент, используемый в оборудовании для травления полупроводников, служащий одновременно электродом и каналом для травильных газов. Выбирайте Semicorex из-за превосходного контроля над материалами, передовых технологий обработки, а также надежной и долговечной работы в требовательных полупроводниковых приложениях.*
Читать далееОтправить запрос
