Получик-силиконовый вакуумный патрон является высокопроизводительным раствором для обработки пластин, изготовленного из пористого кремниевого карбида. Он специально спроектирован для вакуумной адсорбции полупроводниковых пластин во время критических процессов, таких как монтаж (воск), прореживание, де-наборы, очистка, нарезание и быстрое тепловое отжиг (RTA). Выберите SemiCorex для непревзойденной чистоты материала, точности размерных и надежных производительности в требовательной полупроводниковой среде.*
Читать далееОтправить запросГрафитовый нагреватель стержня Semicorex представляет собой высокопроизводительный нагревательный элемент, предназначенный для равномерной высокотемпературной генерации внутри вакуумных печей. Выберите Semicorex для его опыта в графитовых решениях с точностью, обеспечивая превосходную тепловую стабильность и долгосрочную производительность, адаптированные к вашим промышленным потребностям.
Читать далееОтправить запросСтержни с графитовыми электродами Semicorex представляют собой компоненты с высокой чистотой графитом, используемые в качестве элементов нагрева ядра в вакуумных печи. Выберите Semicorex для непревзойденного качества материала, точной обработки и надежной производительности в вакуумных средах высокотемпературных.
Читать далееОтправить запросRobot Arm Semicorex Arm-это высокопроизводительный керамический компонент, предназначенный для точной обработки пластин в производстве полупроводников. Его превосходная прочность, изоляция и тепловая стабильность делают его идеальным для требования среды для автоматизации чистой комнаты.*
Читать далееОтправить запросПолукикс глиноземной керамический эффектор является точным инженерным компонентом, специально предназначенным для надежной и без загрязнения обработки пластин при производстве полупроводников и связанных с ним применения.************************************************
Читать далееОтправить запросSemicorex Porous SIC Chack-это высокопроизводительный керамический вакуумный патрон, предназначенный для безопасной и равномерной адсорбции пластин при полупроводниковой обработке. Его инженерная микропористая структура обеспечивает превосходное распределение вакуума, что делает его идеальным для точных применений.*
Читать далееОтправить запрос