- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Продукты
- View as
Носитель PSS для травления с покрытием SiC
Носители пластин, используемые при эпиксиальном выращивании и обработке пластин, должны выдерживать высокие температуры и жесткую химическую очистку. Носитель PSS для травления Semicorex SiC с покрытием, разработанный специально для требовательного оборудования для эпитаксии. Наша продукция имеет хорошее ценовое преимущество и охватывает многие рынки Европы и Америки. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запрос
Стволовый токоприемник с покрытием из SiC для эпитаксиального роста LPE
Стволовый токоприемник Semicorex с SiC-покрытием для эпитаксиального роста LPE — это высокопроизводительный продукт, разработанный для обеспечения стабильной и надежной работы в течение длительного периода. Его равномерный термический профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения делают его идеальным выбором для выращивания высококачественных эпитаксиальных слоев на пластинах-чипах. Его индивидуализация и экономичность делают его высококонкурентным продуктом на рынке.
Читать далееОтправить запрос
Эписистема ствольного приемника
Semicorex Barrel Susceptor Epi System — это высококачественный продукт, который обеспечивает превосходную адгезию покрытия, высокую чистоту и стойкость к высокотемпературному окислению. Его равномерный термический профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения делают его идеальным выбором для выращивания эпиксиальных слоев на пластинчатых чипах. Его экономичность и возможность настройки делают его высококонкурентным продуктом на рынке.
Читать далееОтправить запрос
Реакторная система жидкофазной эпитаксии (ЖФЭ)
Реакторная система для жидкофазной эпитаксии (LPE) Semicorex — это инновационный продукт, который обеспечивает превосходные тепловые характеристики, равномерный термический профиль и превосходную адгезию покрытия. Его высокая чистота, стойкость к высокотемпературному окислению и коррозионная стойкость делают его идеальным выбором для использования в полупроводниковой промышленности. Возможности настройки и экономичность делают его высококонкурентным продуктом на рынке.
Читать далееОтправить запрос
Эпитаксиальное осаждение CVD в бочковом реакторе
Реактор для эпитаксиального осаждения Semicorex CVD в цилиндрическом корпусе — это высокопрочный и надежный продукт для выращивания эпиксиальных слоев на пластинчатых чипах. Его стойкость к высокотемпературному окислению и высокая чистота делают его пригодным для использования в полупроводниковой промышленности. Его равномерный термический профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения делают его идеальным выбором для высококачественного выращивания эпиксиального слоя.
Читать далееОтправить запрос
Эпитаксиальное осаждение кремния в бочковом реакторе
Если вам нужен высокопроизводительный графитовый токоприемник для использования в производстве полупроводников, идеальным выбором станет реактор для эпитаксиального осаждения кремния Semicorex. Его покрытие SiC высокой чистоты и исключительная теплопроводность обеспечивают превосходные свойства защиты и распределения тепла, что делает его идеальным выбором для надежной и стабильной работы даже в самых сложных условиях.
Читать далееОтправить запрос
