Карбид кремния патроны

Семикорекспатроны из карбида кремнияпредставляют собой функциональные адсорбционные устройства, изготовленные изкарбид кремния(SiC) керамический материал. Они в основном используются в полупроводниках, фотоэлектрических устройствах, прецизионном производстве и других сферах, где предъявляются чрезвычайно высокие требования к устойчивости к высоким температурам, износостойкости, стойкости к химической коррозии и чистоте материалов.

Керамический материал SiC обладает высокой термостойкостью и сохраняет структурную стабильность в условиях высоких температур. Его отличная теплопроводность позволяет быстро рассеивать тепло, образующееся при адсорбции, предотвращая перегрев заготовки. Исключительная твердость материала делает его пригодным для захвата грубых или твердых заготовок. Кроме того, химическая инертность керамического материала SiC делает его устойчивым к коррозии под действием сильных кислот, сильных щелочей и органических растворителей. Низкое осаждение примесей этого материала позволяет избежать загрязнения примесями и продлевает нормальное время работы оборудования, отвечая требованиям сверхчистоты полупроводниковой промышленности.

Типичные характеристики патронов Semicorex из карбида кремния

1. Высокая точность: плоскостность 0,3-0,5 мкм.

2. Зеркальная полировка

3. Сверхлегкий вес

4. Высокая жесткость

5. Низкий коэффициент теплового расширения.

6. Отличная износостойкость

Сценарии применения патронов из карбида кремния

Производство полупроводников

Перенос и обработка пластин. В таких процессах, как фотолитография и травление, пластина должна быть стабильно адсорбирована в вакуумной среде, чтобы избежать ошибок смещения.

Устойчивость к плазменной коррозии: отличная коррозионная стойкость в процессе травления полупроводников может продлить срок службы продукта.

Производство фотоэлектрических элементов

Резка кремниевых пластин: Адсорбирует кремниевые пластины, чтобы противостоять вибрации при резке и снизить скорость фрагментации кремниевых пластин.

Производство прецизионной оптики и электроники

Обработка сапфировой подложки. Сапфировые подложки, используемые в производстве светодиодных чипов, требуют вакуумной адсорбции. Сила адсорбции должна преодолевать вес подложки и не царапать поверхность продукта.

Патроны из карбида кремния стали ключевыми расходными материалами в сфере высокотехнологичного производства благодаря своим превосходным характеристикам, способствующим технологическому прогрессу в таких отраслях, как производство полупроводников, фотоэлектрическая энергетика и точное производство.