Крышка вакуумной камеры MOCVD, используемая при выращивании кристаллов и обработке пластин, должна выдерживать высокие температуры и жесткую химическую очистку. Крышка вакуумной камеры MOCVD Semicorex с покрытием из карбида кремния специально разработана для работы в этих сложных условиях. Наши продукты имеют хорошее ценовое преимущество и охватывают многие европейские и американские рынки. Мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросТокоприемники Semicorex с графитовым основанием с покрытием SiC для MOCVD представляют собой носители высшего качества, используемые в полупроводниковой промышленности. Наш продукт разработан с использованием высококачественного карбида кремния, который обеспечивает превосходную производительность и долговечность. Этот носитель идеально подходит для использования в процессе выращивания эпитаксиального слоя на кристалле пластины.
Читать далееОтправить запрос