Душевая головка CVD-SiC

Душевая насадка Semicorex CVD-SiC обеспечивает долговечность, превосходное управление температурой и стойкость к химическому разложению, что делает ее подходящим выбором для сложных процессов CVD в полупроводниковой промышленности. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Отправить запрос

Описание продукта

Что касается душевой насадки CVD, насадка CVD-SiC обычно предназначена для равномерного распределения газов-прекурсоров по поверхности подложки во время процесса CVD. Насадка для душа обычно располагается над подложкой, а газы-прекурсоры текут через небольшие отверстия или сопла на ее поверхности.

Материал CVD-SiC, используемый в насадке душа, имеет ряд преимуществ. Его высокая теплопроводность помогает рассеивать тепло, выделяемое во время процесса CVD, обеспечивая равномерное распределение температуры по подложке. Кроме того, химическая стабильность SiC позволяет ему противостоять агрессивным газам и агрессивным средам, обычно встречающимся в процессах CVD.

Конструкция душевой насадки CVD-SiC может варьироваться в зависимости от конкретной системы CVD и технологических требований. Однако обычно он состоит из пластинчатого или дискообразного компонента с множеством прецизионно просверленных отверстий или пазов. Расположение и геометрия отверстий тщательно спроектированы для обеспечения равномерного распределения газа и скорости потока по поверхности подложки.