Насадка для душа CVD-SiC

Насадка для душа Semicorex CVD-SiC отличается долговечностью, отличной терморегуляцией и устойчивостью к химическому разложению, что делает ее подходящим выбором для требовательных процессов CVD в полупроводниковой промышленности. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Отправить запрос

Описание продукта

В контексте насадки для душа CVD насадка для душа CVD-SiC обычно предназначена для равномерного распределения газов-предшественников по поверхности подложки во время процесса CVD. Насадка для душа обычно располагается над подложкой, и исходные газы проходят через небольшие отверстия или сопла на ее поверхности.

Материал CVD-SiC, используемый в насадке для душа, имеет несколько преимуществ. Его высокая теплопроводность помогает рассеивать тепло, выделяемое в процессе CVD, обеспечивая равномерное распределение температуры по подложке. Кроме того, химическая стабильность карбида кремния позволяет ему противостоять агрессивным газам и агрессивным средам, обычно встречающимся в процессах CVD.

Конструкция насадки для душа CVD-SiC может варьироваться в зависимости от конкретной системы CVD и технологических требований. Однако обычно он состоит из пластины или компонента в форме диска с множеством прецизионно просверленных отверстий или пазов. Схема и геометрия отверстий тщательно спроектированы для обеспечения равномерного распределения газа и скорости потока по поверхности подложки.