В плазменной установке для травления и химического осаждения из газовой фазы (CVD) материалов на пластинах технологические газы подаются в технологическую камеру через графитовую душевую головку с CVD-покрытием SiC. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Графитовая душевая головка Semicorex CVD SiC (химическое осаждение из паровой фазы) с графитовым покрытием представляет собой специализированный компонент, используемый в различных промышленных процессах, таких как химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением (PECVD). Он играет решающую роль в доставке газов-прекурсоров или химически активных веществ на поверхность подложки во время процессов осаждения.
Душевая головка из графита с покрытием CVD SiC изготовлена из графита высокой чистоты и покрыта тонким слоем SiC методом CVD. Графитовая душевая головка с CVD-покрытием SiC сочетает в себе полезные свойства графита и SiC, что делает ее важным компонентом в различных процессах осаждения, где требуется точное и равномерное распределение газа, а также устойчивость к высоким температурам и химической среде.
Функции:
Химическая стойкость
Термическая стабильность
Гладкая и однородная поверхность
Снижение загрязнения