В плазменном аппарате для травления и химического осаждения из паровой фазы (CVD) материалов на пластины технологические газы подаются в технологическую камеру через графитовую душевую головку с CVD-покрытием SiC. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Графитовая насадка для душа Semicorex CVD SiC (химическое осаждение из паровой фазы) с покрытием из карбида кремния представляет собой специализированный компонент, используемый в различных промышленных процессах, таких как химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением (PECVD). Он играет решающую роль в доставке газов-предшественников или реактивных частиц на поверхность подложки во время этих процессов осаждения.
Насадка для душа с графитовым покрытием CVD SiC изготовлена из графита высокой чистоты и покрыта тонким слоем SiC методом CVD. Насадка для душа с графитовым покрытием CVD SiC сочетает в себе полезные свойства графита и карбида кремния, что делает ее важным компонентом в различных процессах осаждения, где требуется точное и равномерное распределение газа, а также устойчивость к высоким температурам и химическим средам.
Функции:
Химическая устойчивость
Термическая стабильность
Гладкая и однородная поверхность
Снижение загрязнения