Керамические кольца фокусировки для полупроводников

Семикорекс керамическийкольцо фокусировкиs для полупроводников — это идеальные решения, специально разработанные для суровых условий плазменного травления. Во время сложного процесса травления полупроводников крайне важно точно контролировать распределение плазмы, что может обеспечить стабильность камеры травления и постоянную однородность травления полупроводников. Кольца фокусировки, являющиеся незаменимыми компонентами современного оборудования для травления, обычно располагаются вокруг полупроводниковых пластин и вступают с ними в непосредственный контакт. Производительность фокусировочных колец напрямую влияет на повторяемость процесса, выход продукта и время безотказной работы оборудования.

Преимущества керамических фокусировочных колец Semicorex для полупроводников

1. Сверхвысокая чистота материала.

Чистота нашегоCVD-карбид кремнияматериала превышает 99,9995%. Это может эффективно предотвратить загрязнение камеры травления и полупроводниковых пластин, вызванное недостаточной чистотой материала.

2. Исключительная коррозионная стойкость

Керамические фокусирующие кольца Semicorex для полупроводников изготовлены из CVD-SiC, обладающего превосходной стойкостью к окислению, эрозии и химической коррозии, особенно эффективными в отношении технологических газов, таких как HF и HCl, а также плазменного газа.

3. Превосходное сопротивление

Однородность сопротивления керамических фокусировочных колец Semicorex для полупроводников составляет менее 5%.

Диапазоны сопротивления: Низкое разрешение. (<0,02 Ом·см), среднее разрешение. (0,2–25 Ом·см), высокое разрешение. (>100 Ом·см).

Функции керамических фокусировочных колец Semicorex для полупроводников

1.Контроль и униформизация краевого электрического поля и распределения плазмы.

Керамические фокусирующие кольца Semicorex для полупроводников могут контролировать распределение электрического поля внутри камеры травления и обеспечивать более равномерную плазменную оболочку вокруг полупроводниковых пластин, позволяя плазме воздействовать на поверхность пластины вертикально и равномерно. Таким образом, эффект края травления может быть значительно уменьшен, а точность травления может быть значительно улучшена.

2. Защитите электростатический патрон.

Без защиты колец фокусировки в процессе травления электростатический патрон будет подвергаться бомбардировке и эрозии высокоэнергетической плазмы. Электростатические патроны изготавливаются из дорогих материалов, стоимость замены которых чрезвычайно высока. Использование колец фокусировки может эффективно снизить плазменную коррозию электростатического патрона и свести к минимуму затраты на обслуживание и замену электростатического патрона.