Держатель пластин Semicorex для MOCVD, созданный специально для задач химического осаждения металлоорганических соединений из паровой фазы (MOCVD), становится незаменимым инструментом при обработке монокристаллического Si или SiC для крупномасштабных интегральных схем. Состав Wafer Carrier для MOCVD может похвастаться непревзойденной чистотой, устойчивостью к повышенным температурам и агрессивным средам, а также превосходными герметизирующими свойствами для поддержания чистой атмосферы. Мы в Semicorex занимаемся производством и поставкой высокопроизводительных держателей пластин для MOCVD, которые сочетают качество с экономической эффективностью.
Носитель полупроводниковых пластин Semicorex для MOCVD. Усовершенствованная конструкция для приложений MOCVD действует как надежная основа, специально разработанная для удержания полупроводниковых пластин. Он имеет оптимизированную конструкцию, которая обеспечивает плотное прилегание пластин, а также способствует оптимальному распределению газов для равномерного наслоения материала. Усовершенствованный покрытием из карбида кремния (SiC) методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), держатель пластины для MOCVD сочетает в себе устойчивость графита с свойствами CVD SiC, заключающимися в выдерживании высоких температур, незначительном коэффициенте теплового расширения и обеспечении равномерного рассеивания тепла. Это равновесие имеет решающее значение для сохранения целостности температуры поверхности пластин.
Обладая такими характеристиками, как ингибирование коррозии, химическая устойчивость и, следовательно, увеличенный срок эксплуатации, держатель пластин для MOCVD значительно повышает как калибр, так и выход пластин. Его долговечность представляет собой прямую экономическую выгоду, позиционируя держатель пластин для MOCVD как разумный выбор для вашего производства полупроводников.
Тщательно разработанный для эпитаксиальных процедур пластин, держатель Semicorex Wafer Carrier для MOCVD превосходно подходит для безопасной транспортировки пластин в высокотемпературных печах. Его прочный каркас гарантирует, что пластины останутся неповрежденными, тем самым снижая вероятность повреждения на критических стадиях эпитаксиального роста.**