Semicorex является крупным производителем и поставщиком графитовых токоприемников с покрытием из карбида кремния в Китае. Мы специализируемся на полупроводниковой промышленности, такой как слои карбида кремния и эпитаксия полупроводников. Наш SiC Epi-Wafer Susceptor имеет хорошее ценовое преимущество и охватывает многие рынки Европы и Америки. Мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером.
Semicorex поставляет SiC Epi-Wafer Susceptor с MOCVD-покрытием, используемым для поддержки пластин. Их конструкция из графита с покрытием из карбида кремния высокой чистоты (SiC) обеспечивает превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность для обеспечения постоянной толщины и стойкости эпи-слоя, а также длительную химическую стойкость. Тонкое кристаллическое покрытие SiC обеспечивает чистую и гладкую поверхность, что очень важно для удобства работы, поскольку чистые пластины контактируют с токоприемником во многих точках по всей своей площади.
Наш SiC Epi-Wafer Susceptor разработан для достижения наилучшей ламинарной схемы потока газа, обеспечивая равномерность теплового профиля. Это помогает предотвратить любые загрязнения или диффузию примесей, обеспечивая высококачественный эпитаксиальный рост на пластине.
Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать больше о нашем SiC Epi-Wafer Susceptor.
Параметры SiC Epi-Wafer Susceptor
Основные характеристики покрытия CVD-SIC |
||
Свойства SiC-CVD |
||
Кристаллическая структура |
FCC β-фаза |
|
Плотность |
г/см³ |
3.21 |
Твердость |
Твердость по Виккерсу |
2500 |
Размер зерна |
мкм |
2~10 |
Химическая чистота |
% |
99.99995 |
Теплоемкость |
Дж кг-1 К-1 |
640 |
Температура сублимации |
℃ |
2700 |
Фелексуральная сила |
МПа (RT 4-точечный) |
415 |
Модуль Юнга |
Gpa (изгиб 4 пт, 1300 ℃) |
430 |
Тепловое расширение (CTE) |
10-6К-1 |
4.5 |
Теплопроводность |
(Вт/мК) |
300 |
Особенности SiC Epi-Wafer Susceptor
Графит высокой чистоты с покрытием SiC
Превосходная термостойкость и термическая однородность
Мелкое кристаллическое покрытие SiC для гладкой поверхности
Высокая стойкость к химической чистке.
Материал спроектирован таким образом, чтобы не возникало трещин и расслоений.