Опора постамента с покрытием TaC

Опорная опора с покрытием Semicorex TaC играет ключевую роль в механической поддержке, а также в контроле технологического процесса. Он расположен под основным токоприемником или держателем пластин при использовании в реакторе. Он фиксирует вращающийся узел в нужном положении, поддерживает тепловое равновесие в опоре и обеспечивает здоровый поток газа под зоной пластины. Подставка для опоры с покрытием TaC предназначена для обеих функций, включая конструктивно выполненную графитовую основу, которая покрыта равномерно плотным слоем карбида тантала (TaC) методом химического осаждения из паровой фазы (CVD).

Карбид тантала — один из наиболее тугоплавких и химически инертных материалов с температурой плавления выше 3800 °C и высокой устойчивостью к коррозии и эрозии. Когда CVD используется для производстваTaC-покрытияКонечным результатом является гладкое плотное покрытие, которое защищает графитовую подложку от высокотемпературного окисления, аммиачной коррозии и реакции металлоорганических предшественников. Под воздействием длительного воздействия агрессивных газов или экстремальных температурных циклов, связанных с эпитаксиальными процессами, опора на пьедестал выдерживает испытания, сохраняя структурную и химическую стабильность.

Выполняя множество важнейших функций, покрытие CVD TaC действует как защитный барьер, предотвращая попадание любого потенциального углеродного загрязнения из графитового покрытия и подложки в среду реактора или воздействие на пластину. Во-вторых, он обеспечивает химическую инертность, сохраняя чистоту и стабильность поверхности как в окислительной, так и в восстановительной атмосфере. Это предотвращает нежелательные реакции между технологическими газами и оборудованием реактора, обеспечивая контроль химического состава газовой фазы и сохранение однородности пленки.

Следует также отметить значение опоры-пьедестала в регулировании расхода газа. Ключевым аспектом процесса эпитаксиального осаждения является обеспечение равномерности потока технологических газов по всей поверхности пластины для достижения равномерного роста слоя. Опорная опора для покрытия TaC точно обработана для управления каналами и геометрией потока газа, что помогает плавно и равномерно направлять технологические газы в зону реакции. За счет управления ламинарным потоком турбулентность сводится к минимуму, мертвые зоны устраняются и создается более стабильная газовая среда. Все это способствует превосходной однородности толщины пленки и улучшению эпитаксиального качества.

Los discos de freno cerámicos de carbono Semicorex representan la fusión definitiva de ingeniería de materiales avanzados y fabricación de precisión, diseñados para ofrecer un rendimiento de frenado, durabilidad y eficiencia incomparables. Con una construcción compuesta de cerámica de carbono, el disco de freno consta de fibras de carbono {que} mantendrán su resistencia liviana y al mismo tiempo la dureza y resistencia térmica excepcionales de las cerámicas de carburo de silicio. El resultado es una estructura compuesta única y sofisticada.TaC-покрытиеобеспечивает высокую теплопроводность и излучательную способность, что также позволяет опоре пьедестала эффективно проводить и излучать тепло. Это также приведет к улучшению общей однородности температуры на токоприемнике и пластине, а более низкие градиенты температуры приводят к меньшим отклонениям в росте кристаллов. Кроме того, TaC обладает исключительной стойкостью к окислению, что гарантирует постоянство коэффициента излучения в течение длительных операций, гарантируя точную калибровку температуры и повторяемость технологических характеристик.

Подставка для опоры с покрытием TaC обладает высокой механической прочностью, что обеспечивает длительный срок эксплуатации. В частности, процесс покрытия CVD создает прочную молекулярную связь между слоем TaC и графитовой подложкой, чтобы предотвратить расслоение, растрескивание или отслаивание от термического напряжения. Таким образом, этот компонент выдерживает сотни высокотемпературных циклов без деградации.