Трубка с покрытием TaC

Трубка Semicorex TaC с покрытием представляет собой вершину материаловедения, разработанную для того, чтобы выдерживать экстремальные условия, встречающиеся в современном производстве полупроводников. Труба с покрытием TaC, созданная путем нанесения плотного однородного слоя TaC на изотропную графитовую подложку высокой чистоты методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), предлагает убедительное сочетание свойств, которые превосходят традиционные материалы в сложных высокотемпературных и химически агрессивных средах. **

Отправить запрос

Описание продукта

Сила труб с покрытием Semicorex TaC заключается в синергетическом сочетании основного материала и специального покрытия:

Основа из изотропного графита высокой чистоты:Сердечник трубки с покрытием TaC изготовлен из изотропного графита сверхвысокой чистоты, известного своей превосходной теплопроводностью, низким тепловым расширением и внутренней устойчивостью к тепловому удару. Этот фундамент обеспечивает надежную и стабильную платформу, способную выдерживать быстрые колебания температуры и высокие тепловые нагрузки, характерные для обработки полупроводников.

Карбид Тантала---Щит прочности и инертности:Покрытие TaC, нанесенное методом CVD, преобразует графитовую подложку, придавая исключительную твердость, износостойкость и химическую инертность. Этот защитный слой действует как барьер против агрессивных газов, плазмы и химически активных веществ, встречающихся при производстве полупроводников, обеспечивая структурную целостность и долговечность трубки.

Эта уникальная комбинация материалов обеспечивает ряд преимуществ, которые имеют решающее значение для современного производства полупроводников:

Непревзойденная термостойкость:TaC может похвастаться одной из самых высоких температур плавления среди всех известных материалов, превосходя даже карбид кремния (SiC). Эта экстремальная термостойкость позволяет трубке с покрытием TaC надежно работать в процессах, требующих температуры, превышающей 2500°C, что позволяет производить полупроводниковые устройства нового поколения с жестким тепловым балансом.

Сверхвысокая чистота для управления критически важными процессами:Поддержание безупречной технологической среды имеет первостепенное значение в производстве полупроводников. Использование графита высокой чистоты и тщательный процесс нанесения покрытия CVD обеспечивают минимальное выделение газа или образование частиц из трубки с покрытием TaC, предотвращая загрязнение, которое может поставить под угрозу чувствительные поверхности пластин и производительность устройства.

Непоколебимая химическая стойкость:Химическая инертность трубки с покрытием TaC обеспечивает исключительную устойчивость к широкому спектру агрессивных газов, химически активных ионов и плазменной среды, обычно используемых в полупроводниковых процессах, таких как травление, осаждение и отжиг. Такая надежная химическая стабильность приводит к увеличению срока службы трубок, снижению требований к техническому обслуживанию и снижению общей стоимости владения.

Повышенная механическая прочность для увеличения срока службы:Сильная сила сцепления между покрытием TaC и графитовой подложкой в сочетании с присущей трубке с покрытием TaC твердостью обеспечивает исключительную устойчивость к износу, эрозии и механическим нагрузкам. Повышенная долговечность приводит к увеличению срока службы и сокращению времени простоя при замене, что повышает эффективность процесса и производительность.