Запасные части для эпитаксиального роста

Запасные части Semicorex при эпитаксиальном выращивании абсолютно необходимы, особенно для процессов, в которых используются кварцевые трубки. Эти детали необходимы для обеспечения потока газа, приводящего в движение основание лотка, и обеспечения точного контроля температуры на протяжении всего процесса эпитаксиального роста. Запасные части Semicorex для эпитаксиального выращивания, в просторечии называемые полудеталями, тщательно разработаны, чтобы противостоять высоким температурам и агрессивным средам, присущим камерам эпитаксиального выращивания. Изготовленные из карбида кремния (SiC), они обладают исключительной термической и химической стабильностью, что делает их идеальным выбором для таких требовательных применений. Использование SiC гарантирует, что эти детали способны выдерживать даже самые сложные условия.

Запасные части при эпитаксиальном выращивании напоминают форму полумесяца и предназначены для плотного прилегания к узлу кварцевой трубки. Их уникальная полукруглая форма позволяет легко вставлять и извлекать их из системы, обеспечивая эффективность и точность процедур обслуживания и замены.

Запасные части при эпитаксиальном выращивании служат нескольким целям. Во-первых, они способствуют контролируемой доставке газов, необходимых для процесса эпитаксиального роста. Регулируя скорость и распределение газового потока, они обеспечивают равномерное осаждение полупроводниковых материалов на поверхность подложки, что имеет решающее значение для достижения желаемых свойств материала и производительности устройства.

Запасные части при эпитаксиальном выращивании способствуют вращательному движению основания лотка внутри ростовой камеры. Это вращение имеет решающее значение для обеспечения равномерного распределения осаждаемых материалов, предотвращения образования неровностей или дефектов в эпитаксиальных слоях.