Покрытие SiC представляет собой тонкий слой на токоприемнике, полученный методом химического осаждения из паровой фазы (CVD). Карбид кремния имеет ряд преимуществ перед кремнием, в том числе 10-кратную напряженность электрического поля пробоя, 3-кратную ширину запрещенной зоны, что обеспечивает материалу высокую температурную и химическую стойкость, отличную износостойкость, а также теплопроводность.
Semicorex предоставляет индивидуальное обслуживание, помогает вам внедрять инновации с использованием компонентов, которые служат дольше, сокращают время цикла и повышают производительность.
Покрытие SiC обладает рядом уникальных преимуществ.
Устойчивость к высоким температурам: токоприемник с CVD-покрытием SiC может выдерживать высокие температуры до 1600°C без значительной термической деградации.
Химическая стойкость: покрытие из карбида кремния обеспечивает превосходную стойкость к широкому спектру химикатов, включая кислоты, щелочи и органические растворители.
Износостойкость: покрытие SiC придает материалу превосходную износостойкость, что делает его пригодным для применений, связанных с высоким износом.
Теплопроводность: покрытие CVD SiC придает материалу высокую теплопроводность, что делает его пригодным для использования в высокотемпературных приложениях, требующих эффективной теплопередачи.
Высокая прочность и жесткость: токоприемник с покрытием из карбида кремния придает материалу высокую прочность и жесткость, что делает его пригодным для применений, требующих высокой механической прочности.
Покрытие SiC используется в различных областях применения.
Производство светодиодов: Токоприемник с покрытием CVD SiC используется при производстве различных типов светодиодов, включая синие и зеленые светодиоды, УФ-светодиоды и светодиоды с глубоким УФ-излучением, благодаря его высокой теплопроводности и химической стойкости.
Мобильная связь: токоприемник с CVD-покрытием SiC является важной частью HEMT для завершения эпитаксиального процесса GaN-on-SiC.
Обработка полупроводников: Токоприемник с CVD-покрытием SiC используется в полупроводниковой промышленности для различных применений, включая обработку пластин и эпитаксиальное выращивание.
Графитовые компоненты с покрытием SiC
Изготовленное из графита с покрытием из карбида кремния (SiC), покрытие наносится методом CVD на определенные марки графита высокой плотности, поэтому оно может работать в высокотемпературной печи при температуре более 3000 ° C в инертной атмосфере и 2200 ° C в вакууме. .
Особые свойства и малая масса материала обеспечивают высокую скорость нагрева, равномерное распределение температуры и исключительную точность управления.
Данные о материале покрытия Semicorex SiC
Типичные свойства |
Единицы |
Ценности |
Структура |
|
FCC β-фаза |
Ориентация |
Фракция (%) |
111 предпочтительный |
Объемная плотность |
г/см³ |
3.21 |
Твердость |
Твердость по Виккерсу |
2500 |
Теплоемкость |
Дж кг-1 К-1 |
640 |
Тепловое расширение 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6К-1 |
4.5 |
Модуль Юнга |
Gpa (изгиб 4 пт, 1300 ℃) |
430 |
Размер зерна |
мкм |
2~10 |
Температура сублимации |
℃ |
2700 |
Фелексуральная сила |
МПа (RT 4-точечный) |
415 |
Теплопроводность |
(Вт/мК) |
300 |
Выводы. Токоприемник с CVD-покрытием SiC представляет собой композиционный материал, сочетающий в себе свойства токоприемника и карбида кремния. Этот материал обладает уникальными свойствами, среди которых высокая температурная и химическая стойкость, отличная износостойкость, высокая теплопроводность, высокая прочность и жесткость. Эти свойства делают его привлекательным материалом для различных высокотемпературных применений, включая обработку полупроводников, химическую обработку, термообработку, производство солнечных батарей и производство светодиодов.
Semicorex Support Crucible является ключевым компонентом сложного процесса выращивания кристаллов солнечного кремния, служащим прочной основой для преобразования сырья в высококачественные кремниевые слитки, предназначенные для фотоэлектрических применений. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросSemicorex Barrel Susceptor с SiC-покрытием — это передовое решение, разработанное для повышения эффективности и точности процессов эпитаксиального кремния. Созданный с тщательным вниманием к деталям, этот цилиндрический токоприемник с покрытием SiC специально разработан для удовлетворения строгих требований производства полупроводников, выступая в качестве оптимального держателя пластин и облегчая плавную передачу тепла к пластинам. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросКорпус Semicorex SiC для кремниевой эпитаксии разработан с учетом жестких требований в области прикладных материалов и установок LPE. Созданный с точностью и инновациями, этот бочкообразный токоприемник изготовлен из высококачественного графита с покрытием SiC, что обеспечивает исключительную производительность и долговечность при эпитаксии кремния. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросГрафитовый токоприемник Semicorex с покрытием SiC является важным компонентом, предназначенным для процессов эпитаксии кремния в установках прикладных материалов и LPE (жидкофазной эпитаксии). Изготовленный из высококачественного графитового материала, покрытого карбидом кремния (SiC), этот токоприемник обеспечивает превосходную производительность и долговечность в условиях производства полупроводников. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросЗапасные части Semicorex для эпитаксиального выращивания являются важнейшими компонентами, используемыми в системах эпитаксиального выращивания, особенно в процессах, включающих установки с кварцевыми трубками. Эти детали играют жизненно важную роль в обеспечении потока газа, приводящего в движение основание лотка, и обеспечивают точный контроль температуры на протяжении всего процесса эпитаксиального роста. Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросСтволовый токоприемник Semicorex CVD SiC с покрытием представляет собой тщательно разработанный компонент, предназначенный для передовых процессов производства полупроводников, в частности для эпитаксии. Наша продукция имеет хорошее ценовое преимущество и охватывает большую часть рынков Европы и Америки. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запрос