SiC вафельный лоток

Поднос Semicorex SiC Wafer Tray, выполняющий функцию ключевого элемента в аппарате MOCVD, удерживает и термически управляет монокристаллическими подложками. Его исключительные эксплуатационные характеристики, включая превосходную термическую стабильность и однородность, а также ингибирование коррозии и т. д., имеют решающее значение для высококачественного роста эпитаксиальных материалов. Эти свойства обеспечивают постоянную однородность и чистоту тонких слоев пленки.

Поднос для пластин SiC, усиленный покрытием SiC, значительно улучшает теплопроводность, способствуя быстрому и равномерному распределению тепла, что крайне важно для равномерного эпитаксиального роста. Способность лотка для пластин SiC эффективно поглощать и излучать тепло поддерживает стабильную и постоянную температуру, необходимую для точного осаждения тонких пленок. Такое равномерное распределение температуры имеет решающее значение для создания высококачественных эпитаксиальных слоев, которые необходимы для работы современных полупроводниковых устройств.

Надежная работа и долговечность вафельного лотка SiC сокращают частоту замен, сводя к минимуму время простоя и затраты на техническое обслуживание. Его прочная конструкция и превосходные эксплуатационные возможности повышают эффективность процесса, тем самым повышая производительность и экономическую эффективность в производстве полупроводников.

Кроме того, вафельный лоток Semicorex SiC демонстрирует превосходную стойкость к окислению и коррозии при высоких температурах, что дополнительно обеспечивает его долговечность и надежность. Его высокая термическая стойкость, характеризующаяся значительной температурой плавления, позволяет ему выдерживать строгие температурные условия, присущие процессам производства полупроводников.