Си Эпитаксия

Эпитаксия кремнием является важнейшим методом в полупроводниковой промышленности, поскольку позволяет производить высококачественные кремниевые пленки с заданными свойствами для различных электронных и оптоэлектронных устройств. . Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Отправить запрос

Описание продукта

Эпитаксия Si позволяет создавать определенные свойства слоя, такие как толщина, концентрация легирующей примеси и состав. Путем введения контролируемых количеств примесей, известных как примеси, в эпитаксиальный слой можно точно настроить электрические характеристики получаемых устройств. Это позволяет создавать различные области с разными типами проводимости (n-типа или p-типа) и требуемой концентрацией носителей заряда, что позволяет интегрировать сложные электронные схемы.

Эпитаксия Si является фундаментальным процессом в производстве передовых полупроводниковых устройств, включая микропроцессоры, микросхемы памяти, датчики изображения и солнечные элементы. Он играет жизненно важную роль в повышении производительности, миниатюризации и функциональности устройств. Возможность нанесения высококачественных эпитаксиальных слоев с точным контролем свойств материала способствует постоянному прогрессу и инновациям в полупроводниковой промышленности.