Продукты

Продукты

View as  
 
Эпитаксиальное осаждение CVD в цилиндрическом реакторе

Эпитаксиальное осаждение CVD в цилиндрическом реакторе

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor — это очень прочный и надежный продукт для выращивания эпиксиальных слоев на кристаллах пластин. Его стойкость к высокотемпературному окислению и высокая чистота делают его пригодным для использования в полупроводниковой промышленности. Его равномерный тепловой профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения делают его идеальным выбором для высококачественного роста эпиксиального слоя.

Читать далееОтправить запрос
<1>
Хотите купить современные и долговечные Semiconductor-Devices? Semicorex, безусловно, ваш хороший выбор. Мы известны как один из самых конкурентоспособных производителей и поставщиков Semiconductor-Devices в Китае. Мы также обеспечиваем оптовую упаковку. Вам могут понадобиться некоторые индивидуальные услуги для удовлетворения реальных потребностей вашего региона, вы можете оставить нам сообщение через контактную информацию на веб-странице. Мы искренне приветствуем новых и старых клиентов посетить наш завод для консультаций и переговоров.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept