Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor — это очень прочный и надежный продукт для выращивания эпиксиальных слоев на кристаллах пластин. Его стойкость к высокотемпературному окислению и высокая чистота делают его пригодным для использования в полупроводниковой промышленности. Его равномерный тепловой профиль, ламинарный характер потока газа и предотвращение загрязнения делают его идеальным выбором для высококачественного роста эпиксиального слоя.
Читать далееОтправить запрос