Компонент ICP с SiC-покрытием Semicorex разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря тонкому кристаллическому покрытию SiC наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость.
Читать далееОтправить запросКогда дело доходит до таких процессов обработки пластин, как эпитаксия и MOCVD, высокотемпературное SiC-покрытие Semicorex для камер плазменного травления является лучшим выбором. Наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость благодаря тонкому кристаллическому покрытию SiC.
Читать далееОтправить запросЛоток для плазменного травления Semicorex ICP разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря стабильной стойкости к высокотемпературному окислению до 1600°C наши носители обеспечивают равномерные температурные профили, ламинарный характер потока газа и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.
Читать далееОтправить запросНоситель Semicorex с покрытием SiC для системы плазменного травления ICP представляет собой надежное и экономичное решение для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Наши носители имеют тонкое кристаллическое покрытие SiC, которое обеспечивает превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость.
Читать далееОтправить запросТокоприемник Semicorex с покрытием из карбида кремния для индуктивно-связанной плазмы (ICP) разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря стабильной стойкости к высокотемпературному окислению до 1600°C наши носители обеспечивают равномерные температурные профили, ламинарный характер потока газа и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.
Читать далееОтправить запросДержатель пластин для травления ICP компании Semicorex является идеальным решением для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря стабильной стойкости к высокотемпературному окислению до 1600°C наши носители обеспечивают равномерные температурные профили, ламинарный характер потока газа и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.
Читать далееОтправить запрос