Несущая пластина RTP с покрытием Semicorex SiC для эпитаксиального выращивания является идеальным решением для обработки полупроводниковых пластин. Благодаря высококачественным углеграфитовым токоприемникам и кварцевым тиглям, обработанным методом MOCVD на поверхности графита, керамики и т. д., этот продукт идеально подходит для обработки пластин и обработки эпитаксиального выращивания. Носитель с покрытием SiC обеспечивает высокую теплопроводность и отличные свойства распределения тепла, что делает его надежным выбором для RTA, RTP или жесткой химической очистки.
Читать далееОтправить запросSemicorex является крупным производителем и поставщиком графитовых токоприемников с покрытием из карбида кремния в Китае. Графитовый токоприемник Semicorex, разработанный специально для эпитаксионного оборудования с высокой термостойкостью и коррозионной стойкостью в Китае. Наш носитель с покрытием RTP RTA SiC имеет хорошее ценовое преимущество и охватывает многие рынки Европы и Америки. Мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером.
Читать далееОтправить запросSemicorex RTP Carrier для эпитаксиального выращивания MOCVD идеально подходит для обработки полупроводниковых пластин, включая эпитаксиальный выращивание и обработку пластин. Углеродографитовые токоприемники и кварцевые тигли обрабатываются методом MOCVD на поверхности графита, керамики и т. д. Наша продукция имеет хорошее ценовое преимущество и охватывает многие рынки Европы и Америки. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запросКомпонент ICP с SiC-покрытием Semicorex разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря тонкому кристаллическому покрытию SiC наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость.
Читать далееОтправить запросКогда дело доходит до таких процессов обработки пластин, как эпитаксия и MOCVD, высокотемпературное SiC-покрытие Semicorex для камер плазменного травления является лучшим выбором. Наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость благодаря тонкому кристаллическому покрытию SiC.
Читать далееОтправить запросЛоток для плазменного травления Semicorex ICP разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря стабильной стойкости к высокотемпературному окислению до 1600°C наши носители обеспечивают равномерные температурные профили, ламинарный характер потока газа и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.
Читать далееОтправить запрос