Новости компании

Иерархические пористые углеродные материалы: синтез и внедрение

Синтез порошка карбида кремния высокой чистоты

Порошок карбида кремния высокой чистоты обладает исключительными характеристиками широкой запрещенной зоны, что делает его идеальным материалом для производства высокочастотных и мощных электронных устройств.

Процесс PECVD

Плазменное химическое осаждение из паровой фазы (PECVD) — широко используемая технология в производстве чипов. Он использует кинетическую энергию электронов в плазме для активации химических реакций в газовой фазе, тем самым обеспечивая осаждение тонких пленок.

Каковы применения покрытий SiC и TaC в области полупроводников?

Полупроводники — это материалы, электропроводность которых при комнатной температуре находится между изоляторами и проводниками. Вводя примеси (процесс, известный как легирование), эти материалы могут стать проводниками.

Технология Semicorex для специального графита

Являясь ведущим производителем графитовых материалов в полупроводниковой промышленности, компания Semicorex уделяет первоочередное внимание доступности, удобству использования и долговечности своих материалов, устанавливая стандарты совершенства в этой области.

Суцепторы с покрытием SiC в процессах MOCVD

Суцепторы с CVD-покрытием SiC выполняют функцию специализированных держателей пластин в процессах химического осаждения металлов-органических соединений (MOCVD), играя решающую роль в производстве полупроводников. Эти компоненты жизненно важны для поддержания структурной целостности пластин во время......