ЭСК Чак

Патрон Semicorex ESC использует электростатические силы для обеспечения точного контроля над положением пластины, обеспечивая высокую точность и повторяемость в условиях производства полупроводников. Конструкция патрона ESC в сочетании с надежным выбором материала и настраиваемыми размерами делает его универсальным и незаменимым инструментом в таких процессах, как травление, осаждение и ионная имплантация.

Патрон ESC работает за счет приложения электростатического поля высокого напряжения между электродами патрона и пластиной, создавая силу притяжения, удерживающую пластину на месте. Пластина, обычно изготовленная из кремния или карбида кремния, удерживается этой силой, что позволяет выполнять точные операции в условиях высокого вакуума. Эта система устраняет необходимость в механическом зажиме или вакуумном зажиме, которые могут привести к попаданию загрязнений или деформации пластины. Используя патрон ESC, производители могут добиться более чистой и стабильной среды для деликатных производственных процессов, что приводит к более высокой производительности и более стабильным результатам.

Одним из ключевых преимуществ технологии ESC является ее способность надежно удерживать пластину, равномерно распределяя силу по ее поверхности. Это гарантирует, что пластина останется плоской и стабильной, что имеет решающее значение для достижения равномерного травления или осаждения, особенно в процессах, где требуется субмикронная точность. Настраиваемые размеры патрона ESC позволяют использовать пластины разных размеров: от стандартных пластин диаметром 200 мм и 300 мм до специализированных пластин нестандартных размеров, используемых в исследованиях и разработках или при производстве нишевых полупроводниковых устройств.

Материалы, используемые в конструкции патрона ESC, тщательно отбираются, чтобы обеспечить совместимость с суровыми условиями, обычно встречающимися при обработке полупроводников. Керамический глинозем высокой чистоты используется из-за его превосходных электроизоляционных свойств, термической стабильности и устойчивости к плазменной коррозии. Эти свойства позволяют патрону эффективно функционировать как в условиях высокой температуры, так и в условиях высокого вакуума, обеспечивая долговечность и надежность, необходимые для длительного использования в условиях чистых помещений.

Возможность индивидуальной настройки — еще одно существенное преимущество патронов ESC. В зависимости от конкретных требований процесса производства полупроводников размеры патрона, конфигурации электродов и состав материалов могут быть адаптированы с учетом уникальных потребностей оборудования и обрабатываемых пластин. Независимо от того, включает ли применение плазменное травление, химическое осаждение из паровой фазы (CVD) или физическое осаждение из паровой фазы (PVD), патрон ESC может быть спроектирован так, чтобы оптимизировать производительность и поддерживать целостность пластины во время обработки.