Электростатический патрон E-Chuck

Электростатический патрон Semicorex E-Chuck работает на принципах электростатического притяжения, обеспечивая надежное и точное удержание пластин без необходимости использования механических зажимов или вакуумного всасывания, особенно используемых при травлении, ионной имплантации.

антация, PVD, CVD и т. д. обработка полупроводников. Его настраиваемые размеры позволяют адаптировать его к широкому спектру применений, что делает его идеальным выбором для компаний, стремящихся к гибкости и эффективности в процессах производства полупроводников.

Фундаментальной технологией, лежащей в основе электростатического патрона E-Chuck типа J-R, является его способность генерировать электростатическую силу между пластиной и поверхностью патрона. Эта сила создается путем подачи высокого напряжения на электроды, встроенные в патрон, что индуцирует заряды как на пластине, так и на патроне, тем самым создавая прочную электростатическую связь. Этот механизм не только надежно удерживает пластину на месте, но также сводит к минимуму физический контакт между пластиной и патроном, уменьшая потенциальное загрязнение или механическое напряжение, которое может повредить чувствительные полупроводниковые материалы.

Semicorex может производить продукцию по индивидуальному заказу размером от 200 мм до 300 мм или даже больше, в зависимости от требований клиентов. Предлагая эти настраиваемые опции, ESC типа J-R обеспечивает максимальную гибкость для ряда полупроводниковых процессов, включая плазменное травление, химическое осаждение из паровой фазы (CVD), физическое осаждение из паровой фазы (PVD) и ионную имплантацию.

Что касается материалов, электростатический патрон E-Chuck изготовлен из высококачественных керамических материалов, таких как оксид алюминия (Al2O3) или нитрид алюминия (AlN), которые известны своими превосходными диэлектрическими свойствами, механической прочностью и термической стабильностью. Эта керамика обеспечивает патрону необходимую долговечность, чтобы выдерживать суровые условия производства полупроводников, такие как высокие температуры, агрессивные среды и воздействие плазмы. Кроме того, керамическая поверхность полируется до высокой степени гладкости, чтобы обеспечить равномерный контакт с пластиной, увеличивая электростатическую силу и улучшая общую производительность процесса.

Электростатический патрон E-Chuck также предназначен для решения тепловых задач, обычно возникающих при производстве полупроводников. Управление температурой имеет решающее значение во время таких процессов, как травление или осаждение, где температура пластины может быстро колебаться. Керамические материалы, используемые в патроне, обеспечивают отличную теплопроводность, помогая эффективно рассеивать тепло и поддерживать стабильную температуру пластины.

Электростатический патрон E-Chuck разработан с упором на минимизацию загрязнения частицами, что имеет решающее значение в производстве полупроводников, где даже микроскопические частицы могут привести к дефектам конечного продукта. Гладкая керамическая поверхность патрона снижает вероятность прилипания частиц, а уменьшенный физический контакт между пластиной и патроном благодаря электростатическому удерживающему механизму еще больше снижает риск загрязнения. Некоторые модели ESC типа J-R также имеют усовершенствованные поверхностные покрытия или обработки, которые отталкивают частицы и противостоят коррозии, что повышает долговечность и надежность патрона в условиях чистых помещений.

Подводя итог, можно сказать, что электростатический патрон E-Chuck типа JR — это универсальное и надежное решение для фиксации пластин, которое обеспечивает исключительную производительность в широком диапазоне процессов производства полупроводников. Его настраиваемый дизайн, передовая технология электростатического удержания и надежные свойства материала делают его идеальным выбором для компаний, стремящихся оптимизировать работу с пластинами, сохраняя при этом самые высокие стандарты чистоты и точности. Независимо от того, используется ли ЭСК типа J-R при плазменном травлении, осаждении или ионной имплантации, он обеспечивает гибкость, долговечность и эффективность, необходимые для удовлетворения растущих потребностей современной полупроводниковой промышленности. Благодаря своей способности работать как в кулоновском режиме, так и в режиме Джонсена-Рабека, выдерживать высокие температуры и противостоять загрязнению частицами, регулятор скорости вращения типа JR является важнейшим компонентом в стремлении к более высоким выходам и улучшению результатов процесса.